Di kilang penghasilan cip, proses pemanasan bahan fotoresist bukanlah sekadar langkah “pemanasan awal”. Ia merupakan langkah-termal yang digunakan untuk mengawal ketebalan garisan pada permukaan cip. Perubahan suhu sebanyak 0.5°C sahaja sudah cukup untuk mengubah nilai dos yang diperlukan. Selain itu, kawasan yang terlalu panas akan menyebabkan dinding sisi cip menjadi tidak rata, dan ini akan memberi kesan negatif semasa proses pemotongan dan pengikisan bahan fotoresist. Kami telah mencipta sistem pemanasan berketuhar tinggi untuk menyelesaikan masalah ini: ia memastikan suhu wafer kekal pada tahap yang ditetapkan, di seluruh permukaannya, tanpa adanya perubahan suhu sepanjang masa.
Apa yang penting dari segi teknikalnya
Kami menggunakan kaedah pemanasan dengan gelombang inframerah pendek (NIR), digabungkan dengan alat pemanas yang mempunyai massa termal yang rendah. Dengan cara ini, proses pemanasan dapat dilakukan secara seragam pada seluruh permukaan wafer, dengan variasi suhu yang tidak melebihi ±0.1°C. Kadar perubahan suhu boleh dikawal hingga 3°C/s, tanpa menyebabkan masalah pada lapisan tipis pada wafer. Bahan pemanas ini direka untuk kestabilan pada suhu tinggi, serta memastikan tiada zarah terhasil semasa proses pemanasan. Ketepatan suhu yang dicapai adalah ±0.2°C antara satu alat dengan alat yang lain, jadi proses pengeluaran akan tetap konsisten walaupun skala pengeluaran berubah.
Dalam proses litografi, profil pemanasan perlu konsisten dari satu syif ke syif yang lain, dari satu kumpulan produk ke kumpulan produk yang lain, dan juga dari satu mesin ke mesin yang lain. Sistem pemanas ini membantu menstabilkan hubungan antara wafer dan permukaan panas, sehingga mengurangkan kesan pantulan cahaya dan masalah lain. Hasilnya adalah pengedaran diameter cip yang lebih tepat, kurangnya keperluan untuk membaiki produk setelah pemeriksaan, serta pengurangan sisa bahan di tepi cip.
Selain itu, penggunaan tenaga juga dapat dikurangkan kerana kaedah pemanasan NIR hanya memanaskan kawasan yang ditentukan sahaja. Apabila tiba masa untuk mengganti bahan habis guna, prosesnya mudah dan boleh diramalkan, sekali gus mengurangkan masa henti yang tidak dijangka.
Beberapa perkara yang perlu diingat: bahan pemanas ini sesuai digunakan bersama bahan fotoresist dan pelarut biasa, tetapi ia mungkin sensitif terhadap pendedahan yang berpanjangan kepada bahan alkali yang kuat. Anda perlu menguji proses pembersihan selepas pemanasan sebelum meningkatkan jumlah penggunaannya.
Pemasangan bahan pemanas ini bergantung pada geometri chuck dan tahap emisiviti bahagian belakang wafer. Kami menyediakan panduan kalibrasi untuk platform yang biasa digunakan, agar proses integrasi dapat dilakukan dengan cepat, dan ketepatan suhu tetap terjaga sejak hari pertama.