Op de lithografieafdeling kan een verschil van 1°C op het oppervlak van de wafer ertoe leiden dat de dikte van de randen van het patroon in nanometers verandert. Bovendien kan het aanwezig zijn van deeltjes ervoor zorgen dat veel producten beschadigd raken. Daarom is er een infraroodverwarmingssysteem ontworpen dat ervoor zorgt dat de temperatuur binnen de gewenste grenzen blijft.
Wat technisch gezien belangrijk is: De kortegolflengte-infraroodemitters zijn verdeeld over apart te bedienen zones. Hierdoor kan de temperatuur precies worden geregeld om overeen te komen met de behoeften van de wafer. Over het hele oppervlak van de wafer blijft de temperatuur binnen ±0,1°C. Hierdoor kan de bewerking van de fotoresist betrouwbaar worden uitgevoerd. De hardware is geschikt voor gebruik in schone ruimtes van klasse 1–100 en zorgt er ook voor dat er geen deeltjes zijn. De betrouwbaarheid wordt gemeten, maar niet gegarandeerd: 24/7 bedrijfsduur zonder onverwachte stilstanden. De levensduur van de emitters wordt in de gaten gehouden, zodat de onderhoudsintervallen nauwkeurig kunnen worden bepaald.
Waarom dit werkt: Eerst wordt er fotoresist op de wafer aangebracht, daarna wordt deze verhit. Als de verhitting oneffen is, ontstaan er problemen met de adherentie van de fotoresist en kan het patroon niet goed worden overgedragen. Met het zonale controle-systeem kan de energie op de randen van de wafer precies worden geregeld. Dit zorgt voor een consistente kwaliteit van het patroon, minder herwerkingswerk en een stabiele opbrengst.
Het systeem reduceert ook het energieverbruik, omdat het warmte alleen waar nodig levert. Bovendien kan het systeem snel herstellen tussen verschillende batches, waardoor de cyclus tijd korter wordt, zonder dat de kwaliteit van de verhitting wordt aangetast.
Wat je van tevoren moet weten: Voor de installatie moet de mechanische en elektrische infrastructuur van het systeem worden aangepast aan die van de hostplatform. Er is ook een fase nodig om de zones af te stemmen op de specifieke behoeften van de wafer en de fotoresist. Het systeem is inderdaad geschikt voor gebruik in schone ruimtes, maar er zijn nog steeds speciale voorzieningen nodig en moet er goed worden onderhouden om het aantal deeltjes laag te houden en de prestaties stabiel te houden.