На этапе литографии даже небольшое изменение температуры в 1°C может привести к смещению ширины линий на уровне нанометров. Кроме того, наличие частиц в воздухе может привести к разрушению большого количества изделий. Поэтому был разработан модуль инфракрасного нагрева с зонированным управлением, который позволяет поддерживать температурный режим в пределах заданных значений.
Что имеет значение с технической точки зрения
Инфракрасные излучатели с короткими волнами расположены в отдельно контролируемых зонах, что позволяет регулировать температуру в соответствии с характеристиками поверхностиWafer’. На всей поверхности Wafer’ температура сохраняется в пределах ±0,1°C. Это обеспечивает стабильность процесса нанесения фотополимера: процедуры нагрева проходят в более строгих температурных условиях, а потери параметров из-за температурных колебаний снижаются. Устройство соответствует требованиям чистых помещений классов 1–100; оно также способствует сведению к минимуму количества частиц в воздухе. Надежность устройства измеряется на практике, а не гарантируется наперед: устройство может работать круглосуточно без простоев, а срок службы излучателей контролируется, чтобы время обслуживания оставалось предсказуемым.
Почему это работает эффективно
Сначала наносится фотополимер, затем происходит его нагрев. Если нагрев происходит неравномерно, возникают проблемы с адгезией фотополимера к поверхности Wafer’, а также с качеством результатов обработки. Благодаря зонированному управлению можно регулировать температуру в разных зонах, что позволяет избежать чрезмерного нагрева. В результате достигается стабильный контроль критических размеров на всей поверхности Wafer’, сокращается количество продукции, требующей переработки, и повышается стабильность качества изделий.
Модуль также снижает расход энергии, поскольку тепло поставляется только там, где это необходимо. Кроме того, благодаря быстрой перезагрузке между сериями производства сокращается время цикла без ущерба для качества нагрева.
Что необходимо знать заранее
Для установки устройства необходимо учитывать механические и электрические характеристики платформы, на которой оно будет установлено: тип разъемов, расположение систем вентиляции и т. д. Также потребуется провести настройку устройства в соответствии с особенностями вашего Wafer’ и рецептуры фотополимера.
Устройство действительно подходит для использования в чистых помещениях, но все равно требует использования оборудования высокого класса чистоты, а также строгого плана профилактического обслуживания для поддержания низкого уровня частиц в воздухе и стабильной работы устройства в течение длительного времени.