Trong quy trình sản xuất, bước sấy phim photoresist không phải là bước “khởi động” thông thường. Đó là bước xử lý nhiệt nhằm kiểm soát độ dày của các đường kẻ trên bề mặt wafer. Chỉ cần có sự chênh lệch nhiệt độ 0,5°C thôi, mức liều lượng chiếu sáng cũng sẽ thay đổi. Ngoài ra, nếu vùng được sấy không đồng đều, các bề mặt của wafer sẽ có dạng dốc, điều này sẽ gây ra nhiều vấn đề trong quá trình tẩy phim và khắc bề mặt wafer. Chúng tôi đã thiết kế hệ thống dây đai gia nhiệt cao nhiệt độ để giải quyết vấn đề này: giữ cho wafer ở nhiệt độ mong muốn trên toàn bộ bề mặt, và duy trì nhiệt độ đó trong nhiều giờ liền, mà không gây ra sự biến động nào.
Những yếu tố quan trọng về mặt kỹ thuật Chúng tôi sử dụng công nghệ sưởi ấm bằng tia hồng ngoại cực ngắn (NIR), kết hợp với các dây đai có khả năng giữ nhiệt tốt, nhằm đảm bảo độ đồng đều của nhiệt độ trên toàn bộ bề mặt wafer, với sai số chỉ khoảng ±0,1°C. Bạn có thể kiểm soát tốc độ tăng nhiệt độ lên đến 3°C/giây mà không gây ra sự biến động nào, điều này giúp bảo vệ các lớp phim mỏng và kiểm soát được lượng nhiệt được sử dụng. Dây đai này được chế tạo để hoạt động ở nhiệt độ cao mà vẫn giữ được tính ổn định, đồng thời không tạo ra bất kỳ hạt nào trong môi trường có độ sạch từ cấp độ 1–100. Độ lặp lại của nhiệt độ khi chuyển wafer từ máy này sang máy khác cũng chỉ khoảng ±0,2°C, vì vậy mức nhiệt độ trong quy trình sản xuất sẽ không thay đổi khi bạn mở rộng quy mô sản xuất.
Trong các nhà máy sản xuất chip, bạn cần có các chương trình sấy đồng nhất, giúp duy trì độ đồng đều của nhiệt độ qua từng lần sản xuất. Hệ thống dây đai này giúp ổn định mối liên kết giữa wafer và bề mặt nóng, từ đó giúp giảm hiện tượng phản xạ ánh sáng và các vấn đề liên quan đến việc khắc bề mặt wafer. Kết quả là các đường kẻ trên bề mặt wafer sẽ đồng đều hơn, giảm số lần phải làm lại sau quá trình kiểm tra, và giảm lượng phim thừa ở các mép wafer.
Bên cạnh đó, việc sử dụng hệ thống này còn giúp tiết kiệm thời gian và năng lượng. Tia hồng ngoại chỉ sưởi ấm vùng cần thiết, vì vậy lượng năng lượng tiêu thụ sẽ giảm. Khi cần thay thế linh kiện, quy trình cũng rất đơn giản và dễ dự đoán, giúp giảm thiểu thời gian ngừng máy do các sự cố bất ngờ.
Có một vài điều cần lưu ý. Hoá chất trong dây đai này hoạt động tốt với các loại phim photoresist và dung môi thông thường, nhưng nó có thể bị ảnh hưởng bởi các chất kiềm mạnh trong một số loại hóa chất dùng để tẩy phim. Bạn nên kiểm tra lại quy trình làm sạch sau khi sấy trước khi tăng khối lượng sản xuất.
Việc lắp đặt hệ thống này cần phải phù hợp với hình dạng của bộ giữ wafer và độ phát xạ nhiệt của mặt sau của wafer. Chúng tôi cung cấp các công thức hiệu chuẩn dành cho các nền tảng phổ biến, nhằm giúp việc tích hợp hệ thống diễn ra nhanh chóng và đảm bảo độ đồng đều của nhiệt độ ngay từ ngày đầu tiên.