তাপ নষ্ট করা বন্ধ করুন: ওয়েফারগুলোকে উত্তপ্ত করার আরও ভালো উপায়
সিলিকন ওয়েফারগুলোকে উত্তপ্ত করার ক্ষেত্রে সমস্যাটি হলো: এর জন্য প্রচুর শক্তির প্রয়োজন; কিন্তু তার বেশিরভাগই অন্য দিকেই চলে যায়।
সাধারণ IR ল্যাম্পগুলো সর্বদিকেই তাপ ছড়িয়ে দেয়। ফলে প্রক্রিয়াকক্ষের ভিতরটা উত্তপ্ত হয়ে যায়। এটা শক্তির অপচয় ছাড়াও যন্ত্রপাতিগুলোকে একটি “রেডিয়েটর”-এ পরিণত করে দেয়। এটা আশেপাশে কাজ করা লোকদের জন্য বিপজ্জনক।
সমাধানটি খুবই সরল: দিকনির্দেশিত IR ব্যবহার করা।
তাপ ছড়িয়ে দেওয়া সাধারণ কোয়ার্টজ টিউবের পরিবর্তে, আমরা বিশেষ রিফ্লেক্টর ও অভ্যন্তরীণ কোটিংযুক্ত ল্যাম্প ব্যবহার করি। এটা যেন হোসের সাথে নজল লাগানোর মতো। আমরা ইনফ্রারেড রশ্মিগুলোকে সরাসরি ওয়েফারের দিকে পাঠাই; ফলে শক্তিগুলো শুধুমাত্র লক্ষ্যবস্তুতেই পড়ে।
ভ্যাকুয়াম চেম্বারের দেয়ালগুলো আর অপ্রয়োজনীয় তাপ শোষণ করে না। এতে কুলিং সিস্টেমগুলোর জন্য কাজ অনেক সহজ হয়ে যায়। দেয়ালগুলো ঠান্ডা থাকলে, তাপীয় সমস্যার কারণে যান্ত্রিক সমস্যা হওয়ার ঝুঁকি থাকে না। আর রক্ষণাবেক্ষণের সময় অপারেটররা বাইরের প্যানেলগুলো স্পর্শ করতে পারেন, কোনো সমস্যা হয় না।
আর সবচেয়ে ভালো ব্যাপার হলো? তাপীয় অবস্থা অনেক ভালো থাকে। ওয়েফারের কিনারাগুলোতে তাপমাত্রার পার্থক্য থাকে না; যা সাধারণত সমস্যার কারণ হয়।
কিন্তু একটি সতর্কতা…
এটা কোনো “জাদুর বোতাম” নয়। যেহেতু আমরা তাপকে কেন্দ্রীভূত করছি, তাই ওয়েফারের পৃষ্ঠে তাপের ঘনত্ব বেড়ে যায়।
যদি PID কন্ট্রোলারটি ঠিকমতো সেট না করা হয়, তাহলে ওয়েফারে তাপীয় সমস্যা হতে পারে। আর যদি তাপকে খুব দ্রুত পাঠানো হয়, তাহলে ওয়েফারটি ক্ষতিগ্রস্ত হতে পারে।
আমার পরামর্শ হলো: প্রথম কয়েকবার টেস্ট করার সময় আরও সময় ব্যয় করুন। নিশ্চিত হয়ে নিন যে শক্তিগুলো ওয়েফারের কেন্দ্রেই পড়ছে, আর প্রান্তে নয়। এভাবে সবকিছু ঠিক থাকবে।