<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Fotorezist on Infrared Heating Zone Solutions</title>
		<link>http://ir-heat-zone.com/cs/tags/fotorezist/</link>
		<description>Recent content in Fotorezist on Infrared Heating Zone Solutions</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>cs</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sun, 07 Jun 2026 03:48:07 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-zone.com/cs/tags/fotorezist/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Modul infračerveného sušení fotorezistu</title>
				<link>http://ir-heat-zone.com/cs/posts/photoresist-drying-infrared-module/</link>
				<pubDate>Sun, 07 Jun 2026 03:48:07 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-zone.com/cs/posts/photoresist-drying-infrared-module/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-zone.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;Modul infračerveného sušení fotorezistu&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Na lithografické hale stačí polostupňový posun v měkkém pečení fotoresistu, aby se kontrola kritické rozměrové tolerance (CD) dostala mimo specifikace. Vafle se hromadí, vzniká šrot a linka platí za tepelnou nekonzistenci. Vyvinuli jsme modul pro sušení fotoresistu infračerveným zářením, který eliminuje nejistoty při sušení vaflí, měkkém i tvrdém pečení.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Co je klíčové pod povrchem&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Používáme krátkovlnné infračervené záření s křemenným-halogenidovým zdrojem, který přímo dodává energii do vrstvy fotoresistu. Modul udržuje teplotní uniformitu na úrovni wafle ±0,1°C přes celou pečící plochu, takže každé místo dostane stejný tepelný profil. Kompatibilita s čistotou prostředí třídy Cleanroom 1–100 je zajištěna částicově kontrolovanou komorou a materiály s nízkou emisí plynů. Nulová produkce částic není reklamní fráze, ale je dosažena návrhem proudění vzduchu a povrchovou úpravou splňující standardy pro kontaminaci polovodičů. Opakovatelnost je zaručena uzavřenou pyrometrií a receptem řízenou regulací, která udržuje náběh, fázi nasycení i chlazení s přesností pod sekundu.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
