http://ir-heat-zone.com/cs/tags/module/ Recent content in Module on Infrared Heating Zone Solutions Hugo cs Mon, 29 Jun 2026 07:01:25 +0800 http://ir-heat-zone.com/cs/posts/zoned-infrared-heating-module/ Mon, 29 Jun 2026 07:01:25 +0800 http://ir-heat-zone.com/cs/posts/zoned-infrared-heating-module/ <p><img src="http://ir-heat-zone.com/images/0ea7296bcdd661f341d1983d454c4037.png" alt="Modul infračerveného vytápění s pásmovým řízením"></p> <p>V prostředí litografie může změna teploty o 1 °C na povrchu waferu způsobit posun šířky pruhů o několik nanometrů. Navíc mohou částice zničit velké množství výrobku. Proto byl vyvinut modul pro zónové infračervené ohřevání – ten zajistí, aby teplotní podmínky zůstaly v požadovaném rozmezí.</p> <p><strong>Co je z hlediska techniky důležité</strong><br> Emitory krátkovlnného infračerveného záření jsou rozvrženy do samostatně ovládaných zón, takže lze teplotu přizpůsobit konkrétním podmínkám waferu. Na celé ploše waferu zůstává rovnoměrnost teploty v rozmezí ±0,1 °C. Proces vyztužování fotorezistentu je tak reprodukovatelný – procesy měkkého a tvrdého vyztužování probíhají s přesnější kontrolou teploty, což snižuje ztráty v důsledku teplotních vlivů. Hardware je kompatibilní s čistými prostory tříd 1–100 a je navržen tak, aby minimalizoval počet částic. Spolehlivost se měří, není zaručena – zařízení funguje 24/7 bez plánovaných výpadků. Životnost emitorů je sledována, aby byly možnosti údržby předvídatelné.</p> http://ir-heat-zone.com/cs/posts/photoresist-drying-infrared-module/ Sun, 07 Jun 2026 03:48:07 +0800 http://ir-heat-zone.com/cs/posts/photoresist-drying-infrared-module/ <p><img src="http://ir-heat-zone.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png" alt="Modul infračerveného sušení fotorezistu"></p> <p>Na lithografické hale stačí polostupňový posun v měkkém pečení fotoresistu, aby se kontrola kritické rozměrové tolerance (CD) dostala mimo specifikace. Vafle se hromadí, vzniká šrot a linka platí za tepelnou nekonzistenci. Vyvinuli jsme modul pro sušení fotoresistu infračerveným zářením, který eliminuje nejistoty při sušení vaflí, měkkém i tvrdém pečení.</p> <p><strong>Co je klíčové pod povrchem</strong><br> Používáme krátkovlnné infračervené záření s křemenným-halogenidovým zdrojem, který přímo dodává energii do vrstvy fotoresistu. Modul udržuje teplotní uniformitu na úrovni wafle ±0,1°C přes celou pečící plochu, takže každé místo dostane stejný tepelný profil. Kompatibilita s čistotou prostředí třídy Cleanroom 1–100 je zajištěna částicově kontrolovanou komorou a materiály s nízkou emisí plynů. Nulová produkce částic není reklamní fráze, ale je dosažena návrhem proudění vzduchu a povrchovou úpravou splňující standardy pro kontaminaci polovodičů. Opakovatelnost je zaručena uzavřenou pyrometrií a receptem řízenou regulací, která udržuje náběh, fázi nasycení i chlazení s přesností pod sekundu.</p>