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		<title>CMP on Infrared Heating Zone Solutions</title>
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				<title>Heizgerät zum Trocknen der CMP Wafer nach dem Verfahren</title>
				<link>http://ir-heat-zone.com/de/posts/post-cmp-wafer-drying-heater/</link>
				<pubDate>Sat, 20 Jun 2026 05:44:40 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-zone.com/images/0ea7296bcdd661f341d1983d454c4037.png&#34; alt=&#34;Heizgerät zum Trocknen der CMP Wafer nach dem Verfahren&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;In der Fertigungsstätte kann bereits eine einzige Wasserstelle nach dem CMP-Vorgang dazu führen, dass ein Wafer, der die Polierphase überstanden hat, unbrauchbar wird. Das Trocknen der Wafers nach dem CMP-Vorgang ist daher nicht nur empfehlenswert – es ist sogar notwendig.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Wenn der Heizer nicht präzise gesteuert wird, entsteht Uneinheitlichkeit in der Temperaturverteilung. Die Oberflächenspannung verursacht Streifen auf der Oberfläche, und diese Defekte wirken sich direkt auf den Lithografieprozess aus. &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;Unsere&lt;/a&gt; Heizer für das Nachtrocknen wurden unter Berücksichtigung dieser Bedingungen entwickelt: Keine Partikelentstehung, thermische Einheitlichkeit von ±0,1°C über die gesamte Fläche des Wafers sowie wiederholbare Ergebnisse von Schicht zu Schicht.&lt;/p&gt;</description>
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