FOUP (Front Opening Unified Pod) Trockner

Tue, 02 Jun 2026 06:06:33 +0800

Auf dem Litho-Floor lässt der thermische Fehler kaum Spielraum. Ein FOUP, das Feuchtigkeit speichert oder in einer Ecke heiß und in einer anderen kalt läuft, überschreitet das thermische Budget des Photoresists. Das sieht man nicht beim Coater – es zeigt sich später als Linienbreitenabweichungen und Scumming. Wir haben den FOUP-Trockner entwickelt, um diese Variabilität zu eliminieren, sodass das Prozessfenster dort bleibt, wo es sein muss: auf der Waferoberfläche.

Wesentliches unter der Haube
Die Einheit hält die thermische Gleichmäßigkeit auf Wafer-Ebene innerhalb von ±0,1°C über den gesamten FOUP, unter Verwendung eines reinraumkompatiblen Heizprofils, das trocknet, ohne Lösungsmittel in den Resist zu treiben oder Kontaminationen auszugasen. Die Partikelgenerierung liegt faktisch bei null – Materialien und Luftstrom sind für Reinräume der Klasse 1–100 ausgelegt. Wiederholgenauigkeit ist in der Regelungsschleife und der mechanischen Schnittstelle verankert, sodass jeder Backzyklus identisch ausfällt, Charge für Charge. Zuverlässigkeit bedeutet hier einen Betrieb ohne ungeplante Ausfallzeiten, die das Liniengleichgewicht stören.

FOUP on Infrared Heating Zone Solutions

FOUP (Front Opening Unified Pod) Trockner