Temperatur on Infrared Heating Zone Solutions

Temperatursensor für Wafer Werkzeuge

Mon, 27 Jul 2026 06:50:47 +0800

Wie man verhindert, dass die Reinigungswerkzeuge für Wafer explodieren
Seien wir ehrlich: Die Verwendung von Infrarot-Heizlampen in einer chemischen Reinigungszone ist etwas wie das Spielen mit Feuer. Wenn flüchtige Lösungsmittel im Raum sind, bedeutet bereits ein kleiner Funke oder ein undichter Aufbau nicht nur ein „technisches Problem“ – es handelt sich dabei um eine Katastrophe.
Wir bauen unsere Lampen so, dass sie diesem Stress standhalten können – damit Sie nachts nicht wach bleiben müssen und sich Sorgen machen müssen.

Herstellung von Hochtemperatur Isolierband

Tue, 30 Jun 2026 05:06:28 +0800

Auf der Fertigungsstraße ist das Erhitzen des Fotolacks keine Art „Warmup-Prozess“. Es handelt sich dabei vielmehr um einen thermischen Schritt, der die Kontrolle über die Dicke der Schichten ermöglicht. Eine Abweichung von 0,5 °C kann dazu führen, dass die erforderliche Energiemenge verändert wird. Zudem führt eine ungleichmäßige Heizung zu schrägen Wänden auf dem Wafer – was später zu Problemen bei der Entfernung des Fotolacks sowie beim Ätzen führt. Wir haben unser Hochtemperaturheizsystem genau für diese Situation entwickelt: Der Wafer wird über die gesamte Oberfläche hinweg bei der gewünschten Temperatur gehalten – und zwar Stunde für Stunde, ohne dass es zu Partikeln oder Unregelmäßigkeiten kommt.

Präziser Temperatur Photorezystheizer

Wed, 24 Jun 2026 04:03:53 +0800

In der Lithografie-Bereichsanlage reicht bereits eine Temperaturabweichung von 0,5 °C während des Trocknungsprozesses aus, um ganze Chargen von Wafern unbrauchbar zu machen. Der Photolack auf diesen Wafers hat eine sehr begrenzte Toleranz bezüglich der Temperatur – wenn diese Toleranz überschritten wird, verschlechtert sich die Kontrolle über die Breite der Linien auf den Wafers. Deshalb haben wir einen Präzisionsheizer entwickelt, der diese Toleranzen konstant hält – Schicht für Schicht, Zyklus für Zyklus.

Was wirklich wichtig ist:
Der Heizer nutzt kurzwelliges Infrarotlicht sowie eine direkte Heizungsmethode – dadurch bleibt die Temperaturstabilität hoch. Die Gleichmäßigkeit der Temperatur auf den Wafers liegt bei ±0,1 °C, und die Wiederholgenauigkeit beträgt ±0,05 °C von einem Lauf zum nächsten. Die Temperaturänderungen werden auf 2 °C/S kontrolliert, wobei die Abweichung unter 0,2 °C liegt. Dadurch bleiben die Vorgaben für den Trocknungsprozess einhaltbar. Die Kompatibilität mit Reinräumen der Klasse 1–100 wird durch Materialien mit geringer Gasemission sowie durch eine Konstruktion gewährleistet, die Partikelbildung minimiert. Der Heizer arbeitet 24/7 – laut Lebensdauerdaten kann er mehr als 5.000 Stunden lang zuverlässig arbeiten, wobei die Leistung nur um weniger als 5 % abnimmt.