<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Cinta on Infrared Heating Zone Solutions</title>
		<link>http://ir-heat-zone.com/es/tags/cinta/</link>
		<description>Recent content in Cinta on Infrared Heating Zone Solutions</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>es</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Tue, 30 Jun 2026 05:06:28 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-zone.com/es/tags/cinta/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Fábrica de cinta térmica de alta temperatura</title>
				<link>http://ir-heat-zone.com/es/posts/high-temperature-thermal-tape-fab/</link>
				<pubDate>Tue, 30 Jun 2026 05:06:28 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-zone.com/es/posts/high-temperature-thermal-tape-fab/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-zone.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png&#34; alt=&#34;Fábrica de cinta térmica de alta temperatura&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;En la planta de litografía, el proceso de secado del fotoretino no es simplemente un “calentamiento preliminar”. Se trata de un paso térmico que permite controlar el ancho de las líneas trazadas en la superficie del wafer. Una variación de 0.5°C puede cambiar los parámetros necesarios para el procesamiento, y zonas demasiado calientes que no son homogéneas causan paredes inclinadas en la superficie del wafer, lo cual puede causar problemas durante la posterior eliminación del fotoretino y su posterior tratamiento químico. Para hacer frente a esta situación, hemos desarrollado un sistema de &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;cintas&lt;/a&gt; térmicas de alta temperatura que permite mantener al wafer a la temperatura deseada en toda su superficie, hora tras hora, sin que aparezcan partículas extrañas o variaciones en la temperatura.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
