Módulo de secado por infrarrojos para fotoresistencias

Sun, 07 Jun 2026 03:48:07 +0800

En el área de litografía, un desvío de medio grado en el horneado suave del fotoresistente es suficiente para sacar el control de dimensiones críticas (CD) fuera de especificación. Los obleas se acumulan, el desecho aumenta y la línea paga por la inconsistencia térmica. Construimos nuestro módulo de secado de fotoresistentes por infrarrojos para eliminar esa incertidumbre en el secado de obleas, horneado suave y horneado duro.

Lo que importa bajo el capó
Operamos con infrarrojos de onda corta con un emisor de halógeno de cuarzo, vertiendo energía directamente en la capa de fotoresistente. El módulo mantiene la uniformidad de temperatura a nivel de oblea en ±0.1°C a través de la cara de horneado, de modo que cada sitio recibe el mismo presupuesto térmico. La compatibilidad con sala limpia de Clase 1–100 proviene de una cámara controlada por partículas y materiales de baja emisión de gases. La generación de partículas cero no es un lema, se garantiza mediante el diseño de flujo de aire y un acabado superficial que cumple con los estándares de contaminación en semiconductores. La repetibilidad se asegura con pirometría de lazo cerrado y control basado en recetas que mantiene el aumento, la inmersión y el enfriamiento con estabilidad de subsegundos.

Fotoresistente on Infrared Heating Zone Solutions

Módulo de secado por infrarrojos para fotoresistencias