Calentador de fotoresistencia de temperatura precisa

Wed, 24 Jun 2026 04:03:53 +0800

En el proceso de litografía, un cambio de temperatura de 0,5°C durante la fase de cocción es suficiente para arruinar todo un lote de productos. El fotorreactivos utilizados en esos wafers tienen un rango térmico muy estrecho; si se excede ese rango, el control del ancho de las líneas se ve afectado. Por eso, hemos creado un calentador de precisión que permite mantener ese rango térmico estable, ciclo tras ciclo.

Lo que realmente importa
Este calentador utiliza infrarrojos de onda corta y un sistema de calentamiento de acoplamiento directo, lo que reduce la demora térmica. La uniformidad de la temperatura en todo el wafer se mantiene en ±0,1°C, y la repetibilidad entre diferentes ciclos está dentro de los ±0,05°C. Las rampas de temperatura se controlan a 2°C/s, con un desvío menor a 0,2°C. Esto asegura que los perfiles de cocción se mantengan fieles a las especificaciones establecidas. El calentador es compatible con salas limpias de clase 1–100, gracias a los materiales de baja emisión de gases y a su diseño, que evita la presencia de partículas que pudieran causar defectos durante el proceso de cocción. El calentador funciona 24/7, y sus datos de vida útil indican que puede funcionar más de 5,000 horas sin que la intensidad de calor disminuya más del 5%.

Fotorreactiva on Infrared Heating Zone Solutions

Calentador de fotoresistencia de temperatura precisa