Lámpara de horneado para fotoresist de uniformidad

Sat, 27 Jun 2026 04:47:34 +0800

Durante el proceso de curado del fotoretino, se establece su perfil en la primera etapa de cocción. Una variación de 5°C en la temperatura del wafer provoca desviaciones en su diámetro, arruina la precisión de los recubrimientos aplicados y genera costosos retrasos en el proceso. Diseñamos nuestra lámpara para lograr una uniformidad perfecta en la cocción del fotoretino, eliminando así esa incertidumbre.

Lo que es importante desde el punto de vista técnico
Utilizamos lámparas halógenas de onda corta en una cavidad reflectora, diseñada para mantener una uniformidad de temperatura de ±0.1°C en todo el wafer. La pirometría integrada permite controlar las temperaturas con alta precisión, manteniendo así condiciones ideales durante todo el proceso. La lámpara funciona en entornos de clase 1–100, con materiales que emiten poco gas y sin generación de partículas. El aislamiento de fibra de carbono mantiene la masa térmica baja y estabiliza rápidamente la temperatura. Se espera que la lámpara pueda funcionar más de 5,000 horas con una disminución de rendimiento inferior al 5%.

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Lámpara de horneado para fotoresist de uniformidad