Temperatura on Infrared Heating Zone Solutions

Sensor de temperatura para herramienta de obleas

Mon, 27 Jul 2026 06:49:53 +0800

Evitando que las herramientas de limpieza de obleas exploten
Seamos honestos: colocar lámparas de calentamiento por infrarrojos dentro de una zona de limpieza química es como jugar con fuego. Cuando hay disolventes inflamables en el área, incluso una chispa pequeña o una fuga en el dispositivo puede causar un desastre.
Hemos diseñado nuestras lámparas para soportar esa presión, así usted no tendrá que preocuparse por ello durante la noche.

Evitando las fugas
La mayor amenaza es que los vapores químicos penetren en los terminales eléctricos. Para evitarlo, no solo “sellamos” las lámparas, sino que también las envolvemos en una capa múltiple de material aislante. Utilizamos compuestos resistentes a los productos químicos en los extremos de las lámparas, creando así una barrera que impide que los gases inflamables pasen a través de ella.
Además, gracias a los recubrimientos especiales en el vidrio de cuarzo, seguimos obteniendo el calor necesario, incluso con toda esa protección adicional en la superficie exterior.

Fábrica de cinta térmica de alta temperatura

Tue, 30 Jun 2026 05:06:28 +0800

En la planta de litografía, el proceso de secado del fotoretino no es simplemente un “calentamiento preliminar”. Se trata de un paso térmico que permite controlar el ancho de las líneas trazadas en la superficie del wafer. Una variación de 0.5°C puede cambiar los parámetros necesarios para el procesamiento, y zonas demasiado calientes que no son homogéneas causan paredes inclinadas en la superficie del wafer, lo cual puede causar problemas durante la posterior eliminación del fotoretino y su posterior tratamiento químico. Para hacer frente a esta situación, hemos desarrollado un sistema de cintas térmicas de alta temperatura que permite mantener al wafer a la temperatura deseada en toda su superficie, hora tras hora, sin que aparezcan partículas extrañas o variaciones en la temperatura.

Calentador de fotoresistencia de temperatura precisa

Wed, 24 Jun 2026 04:03:53 +0800

En el proceso de litografía, un cambio de temperatura de 0,5°C durante la fase de cocción es suficiente para arruinar todo un lote de productos. El fotorreactivos utilizados en esos wafers tienen un rango térmico muy estrecho; si se excede ese rango, el control del ancho de las líneas se ve afectado. Por eso, hemos creado un calentador de precisión que permite mantener ese rango térmico estable, ciclo tras ciclo.

Lo que realmente importa
Este calentador utiliza infrarrojos de onda corta y un sistema de calentamiento de acoplamiento directo, lo que reduce la demora térmica. La uniformidad de la temperatura en todo el wafer se mantiene en ±0,1°C, y la repetibilidad entre diferentes ciclos está dentro de los ±0,05°C. Las rampas de temperatura se controlan a 2°C/s, con un desvío menor a 0,2°C. Esto asegura que los perfiles de cocción se mantengan fieles a las especificaciones establecidas. El calentador es compatible con salas limpias de clase 1–100, gracias a los materiales de baja emisión de gases y a su diseño, que evita la presencia de partículas que pudieran causar defectos durante el proceso de cocción. El calentador funciona 24/7, y sus datos de vida útil indican que puede funcionar más de 5,000 horas sin que la intensidad de calor disminuya más del 5%.