<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>فتوفرزست on Infrared Heating Zone Solutions</title>
		<link>http://ir-heat-zone.com/fa/tags/%D9%81%D8%AA%D9%88%D9%81%D8%B1%D8%B2%D8%B3%D8%AA/</link>
		<description>Recent content in فتوفرزست on Infrared Heating Zone Solutions</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>fa</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sun, 07 Jun 2026 03:48:07 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-zone.com/fa/tags/%D9%81%D8%AA%D9%88%D9%81%D8%B1%D8%B2%D8%B3%D8%AA/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>ماژول مادون قرمز خشککردن فوتورزیست</title>
				<link>http://ir-heat-zone.com/fa/posts/photoresist-drying-infrared-module/</link>
				<pubDate>Sun, 07 Jun 2026 03:48:07 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-zone.com/fa/posts/photoresist-drying-infrared-module/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-zone.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;ماژول مادون قرمز خشککردن فوتورزیست&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;در سالن لیتوگرافی، انحراف نیم درجه‌ای در نرم‌پخت (soft bake) رزین حساس به نور کافی است تا کنترل ابعاد بحرانی (CD) را خارج از محدوده مشخصات نگه دارد. ویفرها متوقف می‌شوند، ضایعات افزایش می‌یابد و خط تولید هزینه نوسانات حرارتی را متحمل می‌شود. ما ماژول مادون قرمز خشک‌کردن رزین حساس به نور خود را طراحی کردیم تا این عدم قطعیت در خشک‌کردن ویفر، نرم‌پخت و سخت‌پخت را حذف کنیم.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;آنچه زیر کاپوت اهمیت دارد&lt;/strong&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;ما از مادون قرمز موج کوتاه با یک تابش‌دهنده کوارتز-هالوژن استفاده می‌کنیم که انرژی را مستقیم به لایه رزین حساس به نور می‌تاباند. این ماژول یکنواختی دمایی در سطح ویفر را در ±0.1°C روی سطح پخت حفظ می‌کند، بنابراین هر نقطه همان بودجه حرارتی را دریافت می‌کند. سازگاری با کلاس تمیزی ۱–۱۰۰ از طریق محفظه کنترل‌شده ذرات و مواد کم انتشار حاصل می‌شود. صفر تولید ذره صرفاً شعار نیست—بلکه توسط طراحی جریان هوا و پرداخت سطحی که استانداردهای آلودگی نیمه‌رسانا را رعایت می‌کند تضمین می‌شود. تکرارپذیری با پایرومتری حلقه بسته و کنترل مبتنی بر دستورالعمل که شیب دما، نگهداشت و خنک‌سازی را با پایداری کمتر از یک ثانیه حفظ می‌کند، تثبیت شده است.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
