<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>CMP on Infrared Heating Zone Solutions</title>
		<link>http://ir-heat-zone.com/id/tags/cmp/</link>
		<description>Recent content in CMP on Infrared Heating Zone Solutions</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>id</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sat, 20 Jun 2026 05:44:40 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-zone.com/id/tags/cmp/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Pemanas pengering wafer setelah proses CMP</title>
				<link>http://ir-heat-zone.com/id/posts/post-cmp-wafer-drying-heater/</link>
				<pubDate>Sat, 20 Jun 2026 05:44:40 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-zone.com/id/posts/post-cmp-wafer-drying-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-zone.com/images/0ea7296bcdd661f341d1983d454c4037.png&#34; alt=&#34;Pemanas pengering wafer setelah proses CMP&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di lantai produksi, adanya satu pun “tanda air” setelah proses CMP dapat merusak chip yang telah berhasil melewati proses pemrosesan permukaan. Pengeringan wafer setelah proses CMP bukanlah hal yang sekadar disarankan; melainkan merupakan langkah yang sangat penting.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Jika pemanas tidak berfungsi dengan baik, maka akan terjadi ketidakteraturan suhu. Tegangan permukaan akan menyebabkan munculnya garis-garis pada permukaan wafer, dan kecacatan-kecacatan tersebut akan berdampak pada proses litografi. Kami merancang pemanas untuk proses pengeringan setelah CMP dengan memperhatikan hal-hal tersebut: tidak adanya partikel yang dihasilkan, keseragaman suhu &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;sebesar&lt;/a&gt; ±0,1°C di seluruh permukaan wafer, serta kemampuan untuk mendapatkan hasil yang konsisten dari satu sesi produksi ke sesi produksi lainnya.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
