<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Pita on Infrared Heating Zone Solutions</title>
		<link>http://ir-heat-zone.com/id/tags/pita/</link>
		<description>Recent content in Pita on Infrared Heating Zone Solutions</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>id</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Tue, 30 Jun 2026 05:06:28 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-zone.com/id/tags/pita/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Pabrik pita termal berkekuatan tinggi</title>
				<link>http://ir-heat-zone.com/id/posts/high-temperature-thermal-tape-fab/</link>
				<pubDate>Tue, 30 Jun 2026 05:06:28 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-zone.com/id/posts/high-temperature-thermal-tape-fab/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-zone.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png&#34; alt=&#34;Pabrik pita termal berkekuatan tinggi&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di fasilitas litografi, proses pemanasan fotoresisten bukanlah &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;sekadar&lt;/a&gt; “pencairan bahan”. Sebenarnya, itu merupakan langkah termal yang digunakan untuk mengontrol ketebalan garis pada permukaan wafer. Perubahan suhu sebesar 0,5°C saja sudah cukup untuk mengubah rentang dosis pemanasan yang diperlukan. Zona panas yang tidak merata akan &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;menyebabkan&lt;/a&gt; permukaan wafer menjadi tidak rata, dan hal ini akan berdampak negatif saat proses penghilangan lapisan fotoresisten dan etching. Kami menciptakan sistem pemanas berkecepatan tinggi untuk mengatasi masalah ini: wafer dipertahankan pada suhu yang tepat di seluruh permukaannya, dan hal ini dilakukan secara terus-menerus tanpa menimbulkan partikel atau variasi suhu yang tidak diinginkan.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
