Suhu on Infrared Heating Zone Solutions

Sensor suhu untuk alat pengolahan wafer

Mon, 27 Jul 2026 06:51:58 +0800

Mencegah Alat Pembersih Wafer dari Kegagalan
Sejujurnya, meletakkan lampu pemanas IR di zona pembersihan kimia sama saja dengan bermain dengan api. Ketika ada pelarut yang mudah terbakar di sekitarnya, sedikit saja percikan api atau kerusakan pada komponen lampu dapat menyebabkan bencana.

Kami merancang lampu-lampu ini agar mampu bertahan menghadapi situasi seperti itu, sehingga Anda tidak perlu khawatir semalaman.

Menghentikan kebocoran
Ancaman terbesar adalah gas kimia yang masuk ke terminal listrik lampu. Untuk mencegah hal ini, kami tidak hanya “menyegel” bagian-bagian lampu, tetapi juga membungkusnya dengan lapisan pelindung ganda. Kami menggunakan bahan pelindung yang tahan terhadap zat kimia di ujung-ujung lampu, sehingga gas-gas yang mudah terbakar tidak dapat menembusnya.

Pabrik pita termal berkekuatan tinggi

Tue, 30 Jun 2026 05:06:28 +0800

Di fasilitas litografi, proses pemanasan fotoresisten bukanlah sekadar “pencairan bahan”. Sebenarnya, itu merupakan langkah termal yang digunakan untuk mengontrol ketebalan garis pada permukaan wafer. Perubahan suhu sebesar 0,5°C saja sudah cukup untuk mengubah rentang dosis pemanasan yang diperlukan. Zona panas yang tidak merata akan menyebabkan permukaan wafer menjadi tidak rata, dan hal ini akan berdampak negatif saat proses penghilangan lapisan fotoresisten dan etching. Kami menciptakan sistem pemanas berkecepatan tinggi untuk mengatasi masalah ini: wafer dipertahankan pada suhu yang tepat di seluruh permukaannya, dan hal ini dilakukan secara terus-menerus tanpa menimbulkan partikel atau variasi suhu yang tidak diinginkan.

Pemanas fotoresist dengan presisi suhu yang tinggi

Wed, 24 Jun 2026 04:03:53 +0800

Di fasilitas litografi, perubahan suhu sebesar 0,5°C saja sudah cukup untuk membuat seluruh produk yang dihasilkan menjadi tidak layak digunakan. Photoresist pada wafer-wafer tersebut memiliki batasan suhu yang sangat ketat; jika batasan tersebut dilanggar, kontrol lebar garis akan terganggu. Kami menciptakan pemanas berbasis suhu presisi agar batasan tersebut dapat dipertahankan, dari satu siklus ke siklus berikutnya.

Yang penting dalam proses ini adalah… Pemanas ini menggunakan gelombang inframerah pendek dengan sistem pemanasan tipe coupling langsung, sehingga keterlambatan panasnya minimal. Keseragaman suhu di seluruh permukaan wafer tetap terjaga pada tingkat ±0,1°C, sedangkan tingkat repetibilitasnya berkisar antara ±0,05°C dari satu proses ke proses lainnya. Laju peningkatan suhu dikendalikan hingga 2°C/detik, dengan penyimpangan maksimal 0,2°C. Dengan demikian, profil pemanasan tetap sesuai dengan spesifikasi yang ditentukan. Kompatibilitas dengan lingkungan cleanroom kelas 1–100 tercapai berkat penggunaan bahan-bahan yang minim mengeluarkan gas, serta desain yang mampu mengurangi jumlah partikel. Pemanas ini dapat beroperasi 24/7, dan data penggunaannya menunjukkan bahwa pemanas ini dapat beroperasi lebih dari 5.000 jam dengan tingkat penyimpangan intensitas cahaya kurang dari 5%.