Sensore a infrarossi ad alta precisione per wafer

Mon, 13 Jul 2026 14:46:34 +0800

Smettete di sprecare calore: un modo migliore per riscaldare le vostre lastre di silicio
Ecco il problema legato al riscaldamento delle lastre di silicio: è necessaria una grande quantità di energia, ma la maggior parte di essa finisce ovunque, tranne che dove dovrebbe andare. Le lampade a raggi infrarossi tradizionali irradiano calore in tutte le direzioni; in pratica, si tratta di un riscaldamento “360 gradi”. Il risultato? Si finisce per riscaldare l’interno della camera di processo. Questo non solo rappresenta uno spreco di energia, ma fa anche sì che il telaio dell’equipaggiamento funzioni come un enorme radiatore. È un vero pericolo per chi lavora nelle vicinanze.

Riscaldatore a fotoresistenza a temperatura precisa

Wed, 24 Jun 2026 04:03:53 +0800

Nel processo di litografia, una variazione di temperatura di soli 0,5°C durante la fase di essiccazione può bastare per rendere inutilizzabile l’intero lotto di wafer. Il fotoresist presente su questi wafer ha un margine termico molto ristretto: se questo margine viene superato, il controllo delle dimensioni dei circuiti stampati diventa impossibile. Per questo motivo abbiamo progettato un riscaldatore a temperatura precisa, in modo da mantenere costante quel margine termico, turno dopo turno, ciclo dopo ciclo.

Precisione on Infrared Heating Zone Solutions

Sensore a infrarossi ad alta precisione per wafer

Riscaldatore a fotoresistenza a temperatura precisa