Temperatura on Infrared Heating Zone Solutions

Sensor di temperatura per strumento a wafer

Mon, 27 Jul 2026 06:52:00 +0800

Come evitare che gli strumenti per la pulizia dei wafer vadano in tilt
Siano sinceri: inserire lampade a riscaldamento a infrarossi all’interno di una zona di pulizia chimica è come giocare con il fuoco. Quando ci sono solventi infiammabili nell’ambiente, anche la minima scintilla o un difetto nella struttura della lampada possono causare disastri.
Noi costruiamo le nostre lampade in modo che possano resistere a tali condizioni, così da non dover passare le notti in preoccupazione.

Fabbrica di nastro termico ad alta temperatura

Tue, 30 Jun 2026 05:06:28 +0800

Nelle linee di litografia, la fase di riscaldamento del fotorest non rappresenta semplicemente una “fase di avvio”. Si tratta invece di una fase termica fondamentale per garantire un controllo preciso dello spessore delle linee tracciate sul wafer. Una variazione di temperatura di 0,5°C può influenzare negativamente i parametri di trattamento; inoltre, zone troppo calde e non uniformi possono causare problemi durante le fasi di rimozione del fotorest e di etching. Abbiamo progettato il nostro sistema di riscaldamento ad alta temperatura proprio per affrontare queste situazioni: il wafer viene mantenuto alla temperatura desiderata su tutta la superficie, ore dopo ore, senza che si verifichino variazioni o addizioni di particelle.

Riscaldatore a fotoresistenza a temperatura precisa

Wed, 24 Jun 2026 04:03:53 +0800

Nel processo di litografia, una variazione di temperatura di soli 0,5°C durante la fase di essiccazione può bastare per rendere inutilizzabile l’intero lotto di wafer. Il fotoresist presente su questi wafer ha un margine termico molto ristretto: se questo margine viene superato, il controllo delle dimensioni dei circuiti stampati diventa impossibile. Per questo motivo abbiamo progettato un riscaldatore a temperatura precisa, in modo da mantenere costante quel margine termico, turno dopo turno, ciclo dopo ciclo.