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		<title>Termico on Infrared Heating Zone Solutions</title>
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				<title>Fabbrica di nastro termico ad alta temperatura</title>
				<link>http://ir-heat-zone.com/it/posts/high-temperature-thermal-tape-fab/</link>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-zone.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png&#34; alt=&#34;Fabbrica di nastro termico ad alta temperatura&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Nelle linee di litografia, la fase di riscaldamento del fotorest non rappresenta semplicemente una “fase di avvio”. Si tratta invece di una fase termica fondamentale per garantire un controllo preciso dello spessore delle linee tracciate sul wafer. Una variazione di temperatura di 0,5°C può influenzare negativamente i parametri di trattamento; inoltre, zone troppo calde e non uniformi possono causare problemi durante le fasi di rimozione del fotorest e di etching. Abbiamo progettato il nostro sistema di riscaldamento ad alta temperatura proprio per affrontare queste situazioni: il wafer viene mantenuto alla temperatura desiderata su tutta la superficie, ore dopo ore, senza che si verifichino variazioni o addizioni di particelle.&lt;/p&gt;</description>
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