ウェーハ用高精度IRセンサー

Mon, 13 Jul 2026 14:46:34 +0800

熱の無駄遣いをやめよう：ウェーハを効率的に加熱する方法
シリコンウェーハを加熱する際の問題点は、莫大なエネルギーが必要だということです。しかし、そのエネルギーのほとんどが、本来あるべき場所以外に散逸してしまいます。
一般的なIRランプは、あらゆる方向に熱を放ちます。つまり、360度全方位に熱が放出されるわけです。その結果、プロセスチャンバーの内部が過剰に加熱されてしまいます。これはエネルギーの無駄遣いだけでなく、装置自体を巨大なラジエーターのようにしてしまいます。近くで作業する人々にとっては、安全上の大きな危険です。
解決策は簡単です：指向性のあるIRランプを使うのです。
熱を漏らす通常の石英管の代わりに、特殊な反射板や内面処理が施されたランプを使用します。これは、ホースにノズルを取り付けるようなものです。赤外線をウェーハに直接向け、ビームを絞ることで、エネルギーを正確にターゲットに届けることができます。
そうすれば、真空チャンバーの壁が熱を吸収する役割を果たさなくなります。これにより、冷却システムの負担も大幅に軽減されます。壁が冷たい状態を保てば、熱膨張によって機械的な精度が崩れる心配もありません。また、メンテナンス時にもオペレーターが外部パネルに触れても火傷する心配がありません。
そして最も良い点は、より均一な温度分布が得られることです。通常、薄膜成膜時に問題となる端部分の温度差もなくなります。
ただし、注意が必要です。
これは魔法のような手段ではありません。熱を集中させるため、ウェーハ表面の熱流束が急激に上昇します。PIDコントローラーの設定が適切でなければ、局部過熱や、さらに悪い場合は熱衝撃が発生する可能性があります。狭いビームで急激に温度を上げると、基板上にひびが入ってしまうかもしれません。
私のアドバイスは、最初の数回のテスト運転に時間をかけることです。焦点を正確に調整し、エネルギーがウェーハの中心にしっかりと当たり、端に漏れないようにしましょう。このバランスを正しく取れば、他の問題も自然と解決されます。

高精度温度制御型フォトレジスト加熱器

Wed, 24 Jun 2026 04:03:53 +0800

リソグラフィーの工程においては、焼成温度が0.5℃だけ変動しても、そのロット全体が廃棄処分になってしまいます。ウェーハ上のフォトレジストは、非常に厳しい温度管理が求められます。もしその条件を守れなければ、線幅の制御が崩れてしまいます。そこで、私たちは、シフトごと、サイクルごとにその条件を維持するための高精度な温度制御装置を開発しました。

精度 on Infrared Heating Zone Solutions

ウェーハ用高精度IRセンサー

高精度温度制御型フォトレジスト加熱器