<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>포토레지스트 on Infrared Heating Zone Solutions</title>
		<link>http://ir-heat-zone.com/ko/tags/%ED%8F%AC%ED%86%A0%EB%A0%88%EC%A7%80%EC%8A%A4%ED%8A%B8/</link>
		<description>Recent content in 포토레지스트 on Infrared Heating Zone Solutions</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ko</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sat, 27 Jun 2026 04:47:34 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-zone.com/ko/tags/%ED%8F%AC%ED%86%A0%EB%A0%88%EC%A7%80%EC%8A%A4%ED%8A%B8/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>균일성을 위한 포토레지스트 건조 램프</title>
				<link>http://ir-heat-zone.com/ko/posts/uniformity-photoresist-bake-lamp/</link>
				<pubDate>Sat, 27 Jun 2026 04:47:34 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-zone.com/ko/posts/uniformity-photoresist-bake-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-zone.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;균일성을 위한 포토레지스트 건조 램프&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;첫 번째 건조 과정에서 포토레지스트의 형상이 결정됩니다. 웨이퍼의 온도가 5°C만 변해도 CD 값이 바뀌고, 오버레이 문제가 발생하며, 비용이 많이 드는 재작업이 필요해집니다. 이러한 불확실성을 없애기 위해 우리는 균일한 온도 조절이 가능한 포토레지스트 건조용 램프를 개발했습니다.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
			<item>
				<title>정밀 온도 제어형 포토레지스트 가열기</title>
				<link>http://ir-heat-zone.com/ko/posts/precision-temperature-photoresist-heater/</link>
				<pubDate>Wed, 24 Jun 2026 04:03:53 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-zone.com/ko/posts/precision-temperature-photoresist-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-zone.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png&#34; alt=&#34;정밀 온도 제어형 포토레지스트 가열기&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;리소그래피 공정에서는, 베이킹 온도가 0.5°C만 변동해도 전체 생산 물량이 폐기될 수 있습니다. 웨이퍼 위의 포토레지스트는 매우 민감한 온도 조건을 요구하기 때문에, 이 조건을 준수하지 못하면 선의 굵기를 제어할 수 없게 됩니다. 우리는 이러한 문제를 해결하기 위해 고정밀 온도 제어 기능을 갖춘 히터를 개발했습니다. 이를 통해 매번, 매 주기마다 일정한 온도 조건을 유지할 수 있습니다.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
			<item>
				<title>포토레지스트 건조 적외선 모듈</title>
				<link>http://ir-heat-zone.com/ko/posts/photoresist-drying-infrared-module/</link>
				<pubDate>Sun, 07 Jun 2026 03:48:07 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-zone.com/ko/posts/photoresist-drying-infrared-module/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-zone.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;포토레지스트 건조 적외선 모듈&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;리소그래피 라인에서 포토레지스트 소프트 베이크 온도의 반도(0.5도) 미세한 변화만으로도 크리티컬 디멘션(CD) 제어가 규격을 벗어날 수 있다. 웨이퍼가 적체되고 불량률이 증가하며, 라인은 열적 불일치에 따른 비용을 부담하게 된다. 우리는 이러한 불확실성을 제거하기 위해 포토레지스트 건조용 적외선 모듈을 개발하여 웨이퍼 건조, 소프트 베이크, 하드 베이크 공정을 개선했다.&lt;br&gt;&#xA;&lt;strong&gt;핵심 사항&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;우리는 쿼츠-할로겐 방출기를 사용하는 단파장 적외선을 적용해 에너지를 직접 포토레지스트 층에 전달한다. 모듈은 베이크 면 전체에서 ±0.1°C 이내의 웨이퍼 수준 온도 균일도를 유지하여, 모든 사이트가 동일한 열 프로필을 받도록 한다. 클린룸 Class 1–100 호환성은 입자 제어 챔버와 저발산 재료에서 비롯된다. 무입자 발생은 구호가 아니라, 공기 흐름 설계 및 반도체 오염 기준을 충족하는 표면 마감으로 엄격히 관리된다. 반복성은 폐쇄 루프 방식의 피로미터와 램프, 소킹, 쿨다운 단계를 아규먼트 없이 제어하는 레시피 기반 시스템으로 확보된다.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
