Pemanas fotoresist dengan ketepatan suhu yang tinggi

Wed, 24 Jun 2026 04:03:53 +0800

Di bilik litografi, perubahan suhu sebanyak 0.5°C semasa proses pembakaran sudah cukup untuk merosakkan keseluruhan kumpulan wafer tersebut. Photoresist yang terdapat pada wafer-wafer ini mempunyai had suhu yang ketat; jika had ini tidak dipatuhi, kawalan ketebalan garisan pada wafer akan terjejas. Kami telah mencipta pemanas yang sangat tepat untuk mengawal suhu tersebut, agar ia kekal stabil dari satu sesi ke sesi yang lain.

Apa yang penting di sebaliknya
Pemanas ini menggunakan gelombang inframerah pendek dengan sistem pemanasan secara langsung, sehingga tangguh haba dapat dikurangkan. Keseragaman suhu pada permukaan wafer kekal pada tahap ±0.1°C, manakala ketepatan pengulangan proses pula berada dalam lingkungan ±0.05°C dari satu sesi ke sesi yang lain. Perubahan suhu dikawal pada kadar 2°C/s, dengan penyimpangan kurang dari 0.2°C. Ini memastikan proses pembakaran berjalan mengikut spesifikasi yang ditetapkan. Bahan-bahan yang digunakan juga direka untuk mengurangkan pelepasan gas, serta mengelakkan kehadiran zarah-zarah yang boleh menyebabkan kecacatan pada wafer. Pemanas ini beroperasi 24/7, dan data menunjukkan bahawa ia boleh berfungsi dengan stabil selama lebih dari 5,000 jam, dengan penyimpangan intensiti kurang dari 5%.

Fotorezist on Infrared Heating Zone Solutions

Pemanas fotoresist dengan ketepatan suhu yang tinggi