http://ir-heat-zone.com/ms/tags/ketepatan/ Recent content in Ketepatan on Infrared Heating Zone Solutions Hugo ms Mon, 13 Jul 2026 14:46:34 +0800 http://ir-heat-zone.com/ms/posts/precision-ir-sensor-for-wafer/ Mon, 13 Jul 2026 14:46:34 +0800 http://ir-heat-zone.com/ms/posts/precision-ir-sensor-for-wafer/ <p><img src="http://ir-heat-zone.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png" alt="Penderia IR berketepatan tinggi untuk wafer"></p> <p><strong>Hentikan pembaziran tenaga haba: Cara yang lebih baik untuk memanaskan wafer anda</strong><br> Masalahnya ialah proses pemanasan wafer silikon memerlukan banyak tenaga. Namun, sebahagian besar tenaga tersebut disia-siakan dan tidak sampai ke tempat yang sepatutnya.</p> <p>Lampu IR biasa mengeluarkan haba ke semua arah. Hasilnya, bahagian dalam bilik pemprosesan akan menjadi terlalu panas. Ini bukan sahaja membazir tenaga, tetapi juga menjadikan badan peralatan tersebut seperti penyejuk yang besar. Ini merupakan masalah keselamatan bagi mereka yang bekerja di situ.</p> http://ir-heat-zone.com/ms/posts/precision-temperature-photoresist-heater/ Wed, 24 Jun 2026 04:03:53 +0800 http://ir-heat-zone.com/ms/posts/precision-temperature-photoresist-heater/ <p><img src="http://ir-heat-zone.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png" alt="Pemanas fotoresist dengan ketepatan suhu yang tinggi"></p> <p>Di bilik litografi, perubahan suhu sebanyak 0.5°C semasa proses pembakaran sudah cukup untuk merosakkan keseluruhan kumpulan wafer tersebut. Photoresist yang terdapat pada wafer-wafer ini mempunyai had suhu yang ketat; jika had ini tidak dipatuhi, kawalan ketebalan garisan pada wafer akan terjejas. Kami telah mencipta pemanas yang sangat tepat untuk mengawal suhu tersebut, agar ia kekal stabil dari satu sesi ke sesi yang lain.</p> <p><strong>Apa yang penting di sebaliknya</strong><br> Pemanas ini menggunakan gelombang inframerah pendek dengan sistem pemanasan secara <a href="https://henruite.com">langsung</a>, sehingga tangguh haba dapat dikurangkan. Keseragaman suhu pada permukaan wafer kekal pada tahap ±0.1°C, manakala ketepatan pengulangan proses pula berada dalam lingkungan ±0.05°C dari satu sesi ke sesi yang lain. Perubahan suhu dikawal pada kadar 2°C/s, dengan penyimpangan kurang dari 0.2°C. Ini memastikan proses pembakaran berjalan mengikut spesifikasi yang ditetapkan. Bahan-bahan yang digunakan juga direka untuk mengurangkan pelepasan gas, serta mengelakkan kehadiran zarah-zarah yang boleh menyebabkan kecacatan pada wafer. Pemanas ini beroperasi 24/7, dan data menunjukkan bahawa ia boleh berfungsi dengan stabil selama lebih dari 5,000 jam, dengan penyimpangan intensiti kurang dari 5%.</p>