<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Pita on Infrared Heating Zone Solutions</title>
		<link>http://ir-heat-zone.com/ms/tags/pita/</link>
		<description>Recent content in Pita on Infrared Heating Zone Solutions</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Tue, 30 Jun 2026 05:06:28 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-zone.com/ms/tags/pita/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Pita termal untuk suhu tinggi</title>
				<link>http://ir-heat-zone.com/ms/posts/high-temperature-thermal-tape-fab/</link>
				<pubDate>Tue, 30 Jun 2026 05:06:28 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-zone.com/ms/posts/high-temperature-thermal-tape-fab/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-zone.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png&#34; alt=&#34;Pita termal untuk suhu tinggi&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di kilang penghasilan cip, proses pemanasan bahan fotoresist bukanlah sekadar langkah “pemanasan awal”. Ia merupakan langkah-termal yang digunakan untuk mengawal ketebalan garisan pada permukaan cip. Perubahan suhu sebanyak 0.5°C sahaja sudah cukup untuk mengubah nilai dos yang diperlukan. Selain itu, kawasan yang terlalu panas akan menyebabkan dinding sisi cip menjadi tidak rata, dan ini akan memberi kesan negatif semasa proses pemotongan dan pengikisan bahan fotoresist. Kami telah &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;mencipta&lt;/a&gt; sistem pemanasan berketuhar tinggi untuk menyelesaikan masalah ini: ia memastikan suhu wafer kekal pada tahap yang ditetapkan, di seluruh permukaannya, tanpa adanya perubahan suhu sepanjang masa.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
