<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Pos on Infrared Heating Zone Solutions</title>
		<link>http://ir-heat-zone.com/ms/tags/pos/</link>
		<description>Recent content in Pos on Infrared Heating Zone Solutions</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sat, 20 Jun 2026 05:44:41 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-zone.com/ms/tags/pos/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Pemanas untuk mengeringkan wafer selepas proses CMP</title>
				<link>http://ir-heat-zone.com/ms/posts/post-cmp-wafer-drying-heater/</link>
				<pubDate>Sat, 20 Jun 2026 05:44:41 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-zone.com/ms/posts/post-cmp-wafer-drying-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-zone.com/images/0ea7296bcdd661f341d1983d454c4037.png&#34; alt=&#34;Pemanas untuk mengeringkan wafer selepas proses CMP&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di bilik pengeluaran, satu tanda air pun setelah proses CMP &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;boleh&lt;/a&gt; merosakkan die yang telah melalui proses pelinciran. Proses pengeringan wafer selepas CMP bukanlah sesuatu yang boleh diabaikan; ia merupakan langkah penting dalam proses pengeluaran.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Pemanas yang digunakan harus mampu mencapai suhu yang seragam, tanpa adanya variasi suhu sebanyak ±0.1°C di seluruh permukaan wafer. Selain itu, pemanas tersebut juga perlu memastikan tiada zarah-zarah terbentuk semasa proses pengeringan. Kami merancang pemanas tersebut agar dapat mencapai tujuan tersebut: tiada pembentukan zarah, suhu yang seragam, dan kebolehulangan yang tinggi dari satu syif ke syif yang lain.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
