Mengelakkan Alat Pembersih Wafer Daripada rosak Sejujurnya, meletakkan lampu pemanas IR di kawasan pembersihan bahan kimia ibarat bermain dengan api....

Di kilang penghasilan cip, proses pemanasan bahan fotoresist bukanlah sekadar langkah “pemanasan awal”. Ia merupakan langkah-termal yang digunakan...

Di bilik litografi, perubahan suhu sebanyak 0.5°C semasa proses pembakaran sudah cukup untuk merosakkan keseluruhan kumpulan wafer tersebut....