Suhu on Infrared Heating Zone Solutions

Penderia suhu untuk alat pemprosesan wafer

Mon, 27 Jul 2026 06:52:11 +0800

Mengelakkan Alat Pembersih Wafer Daripada rosak
Sejujurnya, meletakkan lampu pemanas IR di kawasan pembersihan bahan kimia ibarat bermain dengan api. Apabila terdapat pelarut yang mudah terbakar di sekelilingnya, sedikit percikan api atau kebocoran pada komponen lampu bukanlah masalah teknikal biasa – ia merupakan bencana sebenar.

Kami memastikan lampu-lampu ini mampu bertahan dalam keadaan seperti ini, supaya anda tidak perlu risau akan hal tersebut pada waktu malam.

Menghentikan kebocoran
Ancaman terbesar ialah wap kimia yang masuk ke dalam terminal elektrik. Untuk mengelakkannya, kami tidak hanya “menyegel” lampu tersebut, tetapi juga membungkusnya dengan lapisan pelindung yang tebal. Kami menggunakan bahan kimia yang tahan terhadap bahan kimia lain untuk membentuk lapisan pelindung yang kukuh, sehingga gas-gas yang mudah terbakar tidak dapat menembusinya.

Pita termal untuk suhu tinggi

Tue, 30 Jun 2026 05:06:28 +0800

Di kilang penghasilan cip, proses pemanasan bahan fotoresist bukanlah sekadar langkah “pemanasan awal”. Ia merupakan langkah-termal yang digunakan untuk mengawal ketebalan garisan pada permukaan cip. Perubahan suhu sebanyak 0.5°C sahaja sudah cukup untuk mengubah nilai dos yang diperlukan. Selain itu, kawasan yang terlalu panas akan menyebabkan dinding sisi cip menjadi tidak rata, dan ini akan memberi kesan negatif semasa proses pemotongan dan pengikisan bahan fotoresist. Kami telah mencipta sistem pemanasan berketuhar tinggi untuk menyelesaikan masalah ini: ia memastikan suhu wafer kekal pada tahap yang ditetapkan, di seluruh permukaannya, tanpa adanya perubahan suhu sepanjang masa.

Pemanas fotoresist dengan ketepatan suhu yang tinggi

Wed, 24 Jun 2026 04:03:53 +0800

Di bilik litografi, perubahan suhu sebanyak 0.5°C semasa proses pembakaran sudah cukup untuk merosakkan keseluruhan kumpulan wafer tersebut. Photoresist yang terdapat pada wafer-wafer ini mempunyai had suhu yang ketat; jika had ini tidak dipatuhi, kawalan ketebalan garisan pada wafer akan terjejas. Kami telah mencipta pemanas yang sangat tepat untuk mengawal suhu tersebut, agar ia kekal stabil dari satu sesi ke sesi yang lain.

Apa yang penting di sebaliknya
Pemanas ini menggunakan gelombang inframerah pendek dengan sistem pemanasan secara langsung, sehingga tangguh haba dapat dikurangkan. Keseragaman suhu pada permukaan wafer kekal pada tahap ±0.1°C, manakala ketepatan pengulangan proses pula berada dalam lingkungan ±0.05°C dari satu sesi ke sesi yang lain. Perubahan suhu dikawal pada kadar 2°C/s, dengan penyimpangan kurang dari 0.2°C. Ini memastikan proses pembakaran berjalan mengikut spesifikasi yang ditetapkan. Bahan-bahan yang digunakan juga direka untuk mengurangkan pelepasan gas, serta mengelakkan kehadiran zarah-zarah yang boleh menyebabkan kecacatan pada wafer. Pemanas ini beroperasi 24/7, dan data menunjukkan bahawa ia boleh berfungsi dengan stabil selama lebih dari 5,000 jam, dengan penyimpangan intensiti kurang dari 5%.