<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Thermisch on Infrared Heating Zone Solutions</title>
		<link>http://ir-heat-zone.com/nl/tags/thermisch/</link>
		<description>Recent content in Thermisch on Infrared Heating Zone Solutions</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>nl</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Tue, 30 Jun 2026 05:06:28 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-zone.com/nl/tags/thermisch/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Fabriek voor hoge temperatuursthermische tape</title>
				<link>http://ir-heat-zone.com/nl/posts/high-temperature-thermal-tape-fab/</link>
				<pubDate>Tue, 30 Jun 2026 05:06:28 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-zone.com/nl/posts/high-temperature-thermal-tape-fab/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-zone.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png&#34; alt=&#34;Fabriek voor hoge temperatuursthermische tape&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Op de productielijn is het ‘bake’proces van het fotorezyst geen soort ‘opwarmingsproces’. Het is eerder een thermisch proces dat nodig is om de dikte van de lagen te regelen. Een verschil van 0,5°C kan al leiden tot problemen bij het printen; in zulke gevallen ontstaan er oneffenheden aan de zijkanten van de lagen, wat later problemen kan opleveren tijdens het verwijderen van het fotorezyst en het eten van de lagen. We hebben ons hoge-temperatuursysteem ontworpen om dit probleem te voorkomen: het wafer &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;wordt&lt;/a&gt; op de gewenste temperatuur gehouden, over de hele oppervlakte heen. Dit gebeurt uur na uur, zonder dat er extra deeltjes of variaties optreden.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
