Verwarmapparaat voor drogen van CMP wafers

Sat, 20 Jun 2026 05:44:40 +0800

Op de productielijn kan één enkele watervlek na de CMP-procedure al voldoende zijn om een chip te vernietigen die het polijstproces heeft overleefd. Het drogen van de wafer na de CMP is geen optie, maar een noodzaak. Als de heater niet goed werkt, neemt de uniformiteit van de temperatuur af. De oppervlaktespanning zorgt er bovendien voor dat er strepen op het oppervlak ontstaan; deze defecten komen vervolgens over op het resultaat van de lithografische procesen. Onze heaters voor het drogen na de CMP zijn zo ontworpen dat er geen deeltjes worden gegenereerd, de temperatuur over het hele oppervlak van de wafer constant blijft (±0,1°C) en de prestaties consistent blijven, ongeacht wanneer het proces wordt uitgevoerd. Specificaties zijn alleen nuttig als ze overeenkomen met de werkelijke omstandigheden waarin de wafer zich bevindt. De heater bevat kortegolflange infrarode elementen die in een kwartsconstructie zijn geplaatst – dit zorgt voor een lage thermische massa en een snelle respons. Wanneer de deur opengaat en sluit, stabiliseert de temperatuur zich snel. De controle vindt in een gesloten circuit plaats, met gekalibreerde sensoren die nauwkeurig de temperatuur meten. Hierdoor blijft de nauwkeurigheid van de temperatuur behouden tijdens alle verdere processen. In een schone ruimte van klasse 1–100 moet worden voorkomen dat er geurstoffen vrijkomen, moeten alle verbindingen goed afgesloten zijn en moet het oppervlak zo glad mogelijk zijn, zodat er geen deeltjes vastzitten. Het voordeel is dat het droogproces stabiel verloopt, waardoor het aantal deeltjes minimaal blijft en de productiekwaliteit hoog blijft. Met deze configuratie worden alle variabiliteiten die niet kunnen worden vermeden weggenomen. Er wordt een consistente drooging bereikt, met een voorspelbaar verloop van het droogproces en minder herwerkingen. De energieverbruik neemt af omdat de thermische massa laag is en het toerental constant blijft. Onze behandelingsgegevens laten zien dat de apparaten 24/7 kunnen draaien, zonder onvoorziene stilstand. De processen kunnen beter worden beheerd wanneer de thermische parameters goed onder controle zijn, zodat de concentratie van het fotoresist over alle batches gelijk blijft. De installatie is eenvoudig, maar het is belangrijk dat de heater goed wordt uitgelijnd met de chuck en dat hij past bij de gasbarrière. Anders zal zelfs een perfecte temperatuurcontrole niet helpen. Er is een korte invoersetperiode nodig om het profiel vast te stellen en de PID-constante in te stellen. Daarna geldt dezelfde discipline als altijd: meet, controleer, documenteer.

Uitdrogen on Infrared Heating Zone Solutions

Verwarmapparaat voor drogen van CMP wafers