Por que seu processo de cura de wafers precisa de um refletor melhor
Se você ainda depende da circulação de ar quente para o processamento profundo de semicondutores, com certeza já sentiu aquele desconforto no fluxo de trabalho. Estou falando daquele tempo perdido, em que você fica parado, olhando para o forno, esperando que ele atinja a temperatura correta.
É um desperdício de tempo. E, nesse setor, o tempo é tudo.
Usar aquecimento por infravermelho muda completamente a situação. Em vez de aquecer todo um tanque de ar na esperança de que esse ar aqueça o wafer, o infravermelho atinge diretamente a superfície do wafer. Sem intermediários. Sem necessidade de esperar que o ar se mova.
Mas há um problema: o infravermelho só funciona se houver um refletor de qualidade.
Pense nisso: sem um revestimento de ouro ou alumínio de alta qualidade, metade da energia gasta acaba sendo refletida de volta para o chassi da máquina. Isso não é apenas ineficiente, mas também um desperdício de dinheiro. Um refletor bem projetado capta essa energia e direciona-a exatamente para onde está o wafer.
A diferença de velocidade é impressionante. Falamos de segundos, em vez de minutos. Ao usar o infravermelho, é possível reduzir o tempo de cura em 40% a 70%. Além disso, o espaço necessário para instalar a máquina diminui. Não há mais necessidade daqueles sopradores enormes e dos dutos isolados que atrapalham o funcionamento da máquina.
Claro, não é tão simples quanto substituir um ventilador por uma lâmpada. O infravermelho requer atenção especial. Ele é direcional. Se o refletor estiver desalinhado, mesmo que seja em alguns graus, haverá pontos quentes, o que leva a deformações ou à cura irregular do wafer. Isso é um verdadeiro pesadelo para o controle de qualidade.
Além disso, é preciso prestar atenção ao calor gerado. As placas de infravermelho de alta potência ficam extremamente quentes rapidamente. Se o sistema de resfriamento não for eficiente o suficiente, os componentes eletrônicos podem ser danificados.
É por isso que dedicamos tanto tempo à geometria da superfície do refletor. É preciso equilibrar a potência do calor com a distribuição uniforme dele sobre o wafer. Trata-se de fazer o trabalho rápido, mas da maneira correta.