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		<title>Assar on Infrared Heating Zone Solutions</title>
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				<title>Lâmpada de secagem para fotorespistores de uniformidade</title>
				<link>http://ir-heat-zone.com/pt/posts/uniformity-photoresist-bake-lamp/</link>
				<pubDate>Sat, 27 Jun 2026 04:47:34 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-zone.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;Lâmpada de secagem para fotorespistores de uniformidade&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Na primeira etapa do processo, o perfil do fotoresistente é definido durante o cozimento. Uma variação de 5°C na temperatura do wafer pode causar desvios no valor CD, prejudicar a qualidade da camada aplicada e gerar custos extras com rework. Desenvolvemos uma lâmpada &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;especial&lt;/a&gt; para cozimento do fotoresistente, visando eliminar essa incerteza.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;O que é importante tecnicamente&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Usamos lâmpadas halógenas de onda curta, localizadas dentro de uma cavidade refletora &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;projetada&lt;/a&gt; para garantir uma uniformidade de temperatura de ±0,1°C em todo o wafer. A tecnologia de pirometria integrada permite controlar as temperaturas com alta precisão, em poucos milissegundos. A lâmpada é compatível com ambientes limpos de classe 1–100, utilizando materiais que emitem pouquíssimos gases e não geram partículas. O isolamento feito de fibra de carbono ajuda a manter a massa térmica baixa e a estabilizar a temperatura rapidamente. Além disso, o revestimento de quartzo resiste aos ciclos térmicos repetidos. Espera-se que a lâmpada funcione por mais de 5.000 horas, com uma queda de eficiência inferior a 5%.&lt;/p&gt;</description>
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