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		<title>Fita on Infrared Heating Zone Solutions</title>
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				<title>Fábrica de fita térmica de alta temperatura</title>
				<link>http://ir-heat-zone.com/pt/posts/high-temperature-thermal-tape-fab/</link>
				<pubDate>Tue, 30 Jun 2026 05:06:28 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-zone.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png&#34; alt=&#34;Fábrica de fita térmica de alta temperatura&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Na linha de produção de litografia, o processo de secagem do fotorresistente não é um simples “aquecimento inicial”. Trata-se de um passo térmico essencial para controlar a espessura das linhas na superfície do wafer. Uma variação de 0,5°C já pode afetar significativamente as condições de processamento. Além disso, zonas quentes que não são uniformes resultam em paredes laterais com inclinação, o que pode causar problemas durante os processos de remoção do fotorresistente e erosão da superfície do wafer. Desenvolvemos nosso sistema de fitas térmicas de alta temperatura justamente para lidar com essa realidade: manter o wafer na temperatura desejada em toda a sua superfície, hora após hora, sem causar variações ou a adição de partículas indesejadas.&lt;/p&gt;</description>
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