Temperatura on Infrared Heating Zone Solutions

Sensor de temperatura para ferramentas de wafer

Mon, 27 Jul 2026 06:50:16 +0800

Como evitar que as ferramentas de limpeza das wafer explodam

Sejamos honestos: colocar lâmpadas de aquecimento por infravermelho dentro de uma área de limpeza química é como brincar com fogo. Quando há solventes inflamáveis no ar, até mesmo uma pequena faísca ou um vazamento pode causar um desastre.
Nós projetamos nossas lâmpadas para suportar esse tipo de situação, assim você não precisa se preocupar com isso durante a noite.

Evitando vazamentos
A maior ameaça é a entrada de vapores químicos nos terminais elétricos. Para evitar isso, não basta “selar” as lâmpadas; elas são envolvidas em um revestimento de múltiplas camadas. Usamos compostos resistentes a produtos químicos nas extremidades das lâmpadas, criando uma barreira que impede que os gases inflamáveis passem.
Além disso, como usamos revestimentos especiais no vidro de quartzo, você ainda consegue obter o calor necessário, mesmo com toda essa proteção externa.

Fábrica de fita térmica de alta temperatura

Tue, 30 Jun 2026 05:06:28 +0800

Na linha de produção de litografia, o processo de secagem do fotorresistente não é um simples “aquecimento inicial”. Trata-se de um passo térmico essencial para controlar a espessura das linhas na superfície do wafer. Uma variação de 0,5°C já pode afetar significativamente as condições de processamento. Além disso, zonas quentes que não são uniformes resultam em paredes laterais com inclinação, o que pode causar problemas durante os processos de remoção do fotorresistente e erosão da superfície do wafer. Desenvolvemos nosso sistema de fitas térmicas de alta temperatura justamente para lidar com essa realidade: manter o wafer na temperatura desejada em toda a sua superfície, hora após hora, sem causar variações ou a adição de partículas indesejadas.

Aquecedor de fotoresistor de temperatura precisa

Wed, 24 Jun 2026 04:03:53 +0800

No processo de litografia, uma variação de 0,5°C na temperatura de cozimento já é suficiente para estragar todo um lote de wafers. O fotorelevo presente nesses wafers tem um limite térmico muito restrito; se esse limite for ultrapassado, o controle da espessura das linhas gravadas fica comprometido. Por isso, desenvolvemos um aquecedor de fotorelevo com precisão extremamente alta, para manter esse limite rigorosamente controlado – turno após turno, ciclo após ciclo.

O que é importante por trás disso tudo
O dispositivo utiliza radiação infravermelha de onda curta, com aquecimento de acoplamento direto, o que reduz significativamente o atraso térmico. A uniformidade da temperatura ao longo do wafer fica entre ±0,1°C, e a repetibilidade entre diferentes ciclos fica dentro de ±0,05°C. As variações de temperatura são controladas a 2°C/s, com um desvio máximo de 0,2°C, o que garante que os perfis de cozimento permaneçam dentro dos padrões estabelecidos. A compatibilidade com salas limpas de classe 1–100 é garantida pelos materiais com baixa emissão de gás e pelo design que evita a presença de partículas, impedindo assim a ocorrência de defeitos durante o processo de cozimento. O aquecedor funciona 24/7, e sua vida útil é superior a 5.000 horas, com uma variação de intensidade menor que 5%.