На этапе литографии даже небольшое изменение температуры в 1°C может привести к смещению ширины линий на уровне нанометров. Кроме того, наличие...

На литографическом этаже дрейф полградуса при мягком отжиге фоторезиста достаточно, чтобы вывести контроль критического размера (CD) за пределы...