http://ir-heat-zone.com/ru/tags/%D0%BC%D0%BE%D0%B4%D1%83%D0%BB%D1%8C/ Recent content in Модуль on Infrared Heating Zone Solutions Hugo ru Mon, 29 Jun 2026 07:01:24 +0800 http://ir-heat-zone.com/ru/posts/zoned-infrared-heating-module/ Mon, 29 Jun 2026 07:01:24 +0800 http://ir-heat-zone.com/ru/posts/zoned-infrared-heating-module/ <p><img src="http://ir-heat-zone.com/images/0ea7296bcdd661f341d1983d454c4037.png" alt="Модуль инфракрасного обогрева с зонированием"></p> <p>На этапе литографии даже небольшое изменение температуры в 1°C может привести к смещению ширины линий на уровне нанометров. Кроме того, наличие частиц в воздухе может привести к разрушению большого количества изделий. Поэтому был разработан модуль инфракрасного нагрева с зонированным управлением, который позволяет поддерживать температурный режим в пределах заданных значений.</p> <p><strong>Что имеет значение с технической точки зрения</strong><br> Инфракрасные излучатели с короткими волнами расположены в отдельно контролируемых зонах, что позволяет регулировать температуру в соответствии с характеристиками поверхности<a href="https://o-yate.net">Wafer</a>’. На всей поверхности Wafer’ температура сохраняется в пределах ±0,1°C. Это обеспечивает стабильность процесса нанесения фотополимера: процедуры нагрева проходят в более строгих температурных условиях, а потери параметров из-за температурных колебаний снижаются. Устройство соответствует требованиям чистых помещений классов 1–100; оно также способствует сведению к минимуму количества частиц в воздухе. Надежность устройства измеряется на практике, а не гарантируется наперед: устройство может работать круглосуточно без простоев, а срок службы излучателей контролируется, чтобы время обслуживания оставалось предсказуемым.</p> http://ir-heat-zone.com/ru/posts/photoresist-drying-infrared-module/ Sun, 07 Jun 2026 03:48:07 +0800 http://ir-heat-zone.com/ru/posts/photoresist-drying-infrared-module/ <p><img src="http://ir-heat-zone.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png" alt="Инфракрасный модуль сушки фотолитографической смолы"></p> <p>На литографическом этаже дрейф полградуса при мягком отжиге фоторезиста достаточно, чтобы вывести контроль критического размера (CD) за пределы спецификации. Вафли накапливаются, брак увеличивается, и линия несет затраты из-за температурной нестабильности. Мы разработали инфракрасный модуль сушки фоторезиста, чтобы исключить эту неопределённость при сушке вафель, мягком и твёрдом отжиге.</p> <p><strong>Что важно в техническом плане</strong><br> Мы используем коротковолновое инфракрасное излучение с кварце-галогеновым излучателем, направляя энергию прямо в слой фоторезиста. Модуль поддерживает однородность температуры на уровне вафли с разбросом ±0,1°C по всей поверхности отжига, так что каждая зона получает одинаковый тепловой ресурс. Совместимость с классом чистоты помещений 1–100 достигается за счёт камеры с контролем частиц и материалов с низкой эмиссией газов. Отсутствие генерации частиц — не лозунг, а результат конструкции воздушных потоков и обработки поверхности согласно стандартам загрязнения полупроводников. Повторяемость обеспечивается замкнутой системой пирометрии и управлением по рецепту, которое стабильно удерживает параметры разгона, выдержки и охлаждения с точностью до долей секунды.</p>