<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Фоторезист on Infrared Heating Zone Solutions</title>
		<link>http://ir-heat-zone.com/ru/tags/%D1%84%D0%BE%D1%82%D0%BE%D1%80%D0%B5%D0%B7%D0%B8%D1%81%D1%82/</link>
		<description>Recent content in Фоторезист on Infrared Heating Zone Solutions</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ru</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Wed, 24 Jun 2026 04:03:53 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-zone.com/ru/tags/%D1%84%D0%BE%D1%82%D0%BE%D1%80%D0%B5%D0%B7%D0%B8%D1%81%D1%82/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Точный нагреватель для фотополимера с регулировкой температуры</title>
				<link>http://ir-heat-zone.com/ru/posts/precision-temperature-photoresist-heater/</link>
				<pubDate>Wed, 24 Jun 2026 04:03:53 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-zone.com/ru/posts/precision-temperature-photoresist-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-zone.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png&#34; alt=&#34;Точный нагреватель для фотополимера с регулировкой температуры&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На этапе литографии даже небольшое отклонение температуры в 0,5°C уже может привести к порче всей партии продукции. Фотопроводник на таких пластинах имеет очень строгие требования к температуре; если эти требования не соблюдаться, контроль толщины линий на пластине становится невозможным. Мы разработали точный нагреватель для поддержания стабильной температуры — чтобы она оставалась неизменной за все циклы обработки.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Что важно при работе с фотопроводником&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Для нагрева используется коротковолновое инфракрасное излучение с прямым нагревом, что позволяет снизить задержку теплоотдачи. Равномерность температуры по всей поверхности пластины составляет ±0,1°C, а точность повторяемости процесса — ±0,05°C от одного цикла к другому. Ускорение температуры контролируется на уровне 2°C/с, при этом отклонение не превышает 0,2°C. Это позволяет соблюдать заданные параметры процесса обработки. Соответствие стандартам чистых комнат класса 1–100 обеспечивается за счет использования материалов с низким уровнем выбросов газов и специальной конструкции, которая снижает количество частиц в воздухе. Нагреватель работает круглосуточно; срок его службы превышает 5000 часов при стабильной мощности, при этом отклонение интенсивности нагрева составляет менее 5%.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
			<item>
				<title>Инфракрасный модуль сушки фотолитографической смолы</title>
				<link>http://ir-heat-zone.com/ru/posts/photoresist-drying-infrared-module/</link>
				<pubDate>Sun, 07 Jun 2026 03:48:07 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-zone.com/ru/posts/photoresist-drying-infrared-module/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-zone.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;Инфракрасный модуль сушки фотолитографической смолы&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На литографическом этаже дрейф полградуса при мягком отжиге фоторезиста достаточно, чтобы вывести контроль критического размера (CD) за пределы спецификации. Вафли накапливаются, брак увеличивается, и линия несет затраты из-за температурной нестабильности. Мы разработали инфракрасный модуль сушки фоторезиста, чтобы исключить эту неопределённость при сушке вафель, мягком и твёрдом отжиге.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Что важно в техническом плане&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Мы используем коротковолновое инфракрасное излучение с кварце-галогеновым излучателем, направляя энергию прямо в слой фоторезиста. Модуль поддерживает однородность температуры на уровне вафли с разбросом ±0,1°C по всей поверхности отжига, так что каждая зона получает одинаковый тепловой ресурс. Совместимость с классом чистоты помещений 1–100 достигается за счёт камеры с контролем частиц и материалов с низкой эмиссией газов. Отсутствие генерации частиц — не лозунг, а результат конструкции воздушных потоков и обработки поверхности согласно стандартам загрязнения полупроводников. Повторяемость обеспечивается замкнутой системой пирометрии и управлением по рецепту, которое стабильно удерживает параметры разгона, выдержки и охлаждения с точностью до долей секунды.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
