Litografi sürecinde, wafer üzerindeki sıcaklıkta meydana gelen 1°C’lik bir değişiklik bile çizgi genişliğini nanometrelerce değiştirebilir. Ayrıca,...

Lithografi katında, fotoresist yumuşak fırınlama sırasında yarım derece kayma, kritik boyut (CD) kontrolünün tolerans dışına çıkması için yeterlidir....