Sıcaklık on Infrared Heating Zone Solutions

Wafers için sıcaklık sensörü

Mon, 27 Jul 2026 06:51:27 +0800

Wafer temizleme araçlarının hasar görmesini önlemek
Dürüst olalım: IR ısıtma lambalarını kimyasal temizleme alanlarının içine koymak, adeta ateşle oynamak gibidir. Etrafta yanıcı çözücüler varken, küçük bir kıvılcım veya hasarlı bir yapı sadece “teknik bir sorun” değil, büyük bir felaket anlamına gelir.
Lambalarımızı bu tür durumlarla başa çıkabilecek şekilde tasarladık; böylece gece boyunca endişelenmenize gerek kalmaz.

Sızıntıları engellemek
En büyük tehdit, kimyasal buharların elektrik terminallerine sızmış olmasıdır. Bunu engellemek için lambaları sadece mühürlemiyoruz; aynı zamanda çok katmanlı bir kaplama ile sarıyoruz. Yanıcı gazların geçemeyeceği bir bariyer oluşturmak için uç kısımlarda dayanıklı ve kimyasallara karşı dirençli malzemeler kullanıyoruz.
Ayrıca kuvars camın üzerine özel kaplamalar uyguladığımız için, dışarıdaki bu ekstra koruma sayesinde de gerekli ısı elde edilebiliyor.

Yüksek sıcaklık termal bant üretimi

Tue, 30 Jun 2026 05:06:28 +0800

Üretim tesisinde, fotoresistin ısıtılması bir “ısınma işlemi” değildir. Bu, çizgi genişliğinin kontrol edilmesini sağlayan termal bir işlemdir. 0,5°C’lik bir değişiklik, dozaj aralığını değiştirebilir; düzgün olmayan ısı dağılımları ise eğik duvarlar oluşturur ve bu da daha sonraki işlemlerde sorunlara yol açar. Biz de bu durumu göz önünde bulundurarak yüksek sıcaklıkta çalışabilen bir termal bant sistemi geliştirdik: Wafer’ı tüm yüzeyi boyunca hedef sıcaklıkta tutmak mümkün; ayrıca saatlerce bu işlem uygulanabilir ve hiçbir parça veya değişkenlik oluşmaz.

Teknik olarak önemli olanlar:
Kısa dalga boylu kızılötesi ısıtma yöntemi ve düşük ısı iletkenliğine sahip bantlar kullanarak, wafer üzerindeki ısı dağılımını ±0,1°C içinde tutuyoruz. Isı artış hızını 3°C/saate kadar kontrol edebiliyoruz; bu sayede ince filmler korunmuş oluyor ve ısı yönetimi daha iyi sağlanıyor. Bant, yüksek sıcaklıklarda bile stabil kalacak şekilde formüle edilmiştir ve Class 1–100 ortamlarında hiçbir parça üretmediği doğrulanmıştır. Farklı makineler arasındaki tekrarlanabilirlik ise ±0,2°C civarındadır; böylece işlem sırasında herhangi bir değişiklik olmaz.

Hassas sıcaklıklı fotoğraf direnci ısıtıcısı

Wed, 24 Jun 2026 04:03:53 +0800

Litografi işlemlerinde, fırın sıcaklığında meydana gelen 0,5°C’lik bir değişiklik bile tüm ürün partisini bozabilir. Bu waferler üzerindeki fotoresistlerin çok hassas bir termal dengeye sahiptir; bu denge bozulursa, çizgi genişliği kontrolü bozulur. Bu nedenle, bu dengeyi korumak için hassas sıcaklık kontrolü sağlayan ısıtıcılar kullanılmıştır.

İç çalışma prensipleri
Bu cihaz, doğrudan bağlantılı ısıtma yöntemiyle kısa dalga uzunluğundaki kızılötesi ışık kullanır; bu sayede termal gecikme azalır. Wafer üzerindeki sıcaklık homojenliği ±0,1°C civarında kalır ve tekrarlanabilirlik ise run’dan run’a ±0,05°C arasında olur. Sıcaklık artış hızı 2°C/s olarak kontrol edilir ve aşırı sıcaklık artışı 0,2°C’nin altındadır. Böylece yumuşak ve sert pişirme işlemleri istenen standartlara uygun şekilde gerçekleştirilir. Düşük gaz salınımı olan malzemeler ve parçacıkları azaltan bir tasarım sayesinde, temiz oda koşulları korunur ve böylece pişirme işlemi herhangi bir kusur oluşturmaz. Isıtıcı 7/24 çalışır ve veriler, %5’ten daha az yoğunluk değişimiyle 5.000 saatten fazla stabil çalışabileceğini göstermektedir.