<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Ảnh Kháng on Infrared Heating Zone Solutions</title>
		<link>http://ir-heat-zone.com/vi/tags/%E1%BA%A3nh-kh%C3%A1ng/</link>
		<description>Recent content in Ảnh Kháng on Infrared Heating Zone Solutions</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>vi</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sun, 07 Jun 2026 03:48:07 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-zone.com/vi/tags/%E1%BA%A3nh-kh%C3%A1ng/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Mô đun hồng ngoại sấy thuốc kháng quang</title>
				<link>http://ir-heat-zone.com/vi/posts/photoresist-drying-infrared-module/</link>
				<pubDate>Sun, 07 Jun 2026 03:48:07 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-zone.com/vi/posts/photoresist-drying-infrared-module/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-zone.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;Mô đun hồng ngoại sấy thuốc kháng quang&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Trên tầng lithography, chỉ cần lệch nướng mềm photoresist nửa độ cũng đủ để làm sai lệch kiểm soát kích thước quan trọng (CD). Wafers bị dồn ứ, tỷ lệ phế phẩm tăng, và dây chuyền phải chịu chi phí do tính không nhất quán nhiệt. Chúng tôi thiết kế module sấy photoresist bằng hồng ngoại để loại bỏ sự không chắc chắn trong quá trình sấy wafer, nướng mềm và nướng cứng.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
