<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Băng on Infrared Heating Zone Solutions</title>
		<link>http://ir-heat-zone.com/vi/tags/b%C4%83ng/</link>
		<description>Recent content in Băng on Infrared Heating Zone Solutions</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>vi</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Tue, 30 Jun 2026 05:06:28 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-zone.com/vi/tags/b%C4%83ng/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Dây dán nhiệt nhiệt độ cao</title>
				<link>http://ir-heat-zone.com/vi/posts/high-temperature-thermal-tape-fab/</link>
				<pubDate>Tue, 30 Jun 2026 05:06:28 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-zone.com/vi/posts/high-temperature-thermal-tape-fab/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-zone.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png&#34; alt=&#34;Dây dán nhiệt nhiệt độ cao&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;Trong&lt;/a&gt; quy trình sản xuất, bước sấy phim &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;photoresist&lt;/a&gt; không phải là bước “khởi động” thông thường. Đó là bước xử lý nhiệt nhằm kiểm soát độ dày của các đường kẻ trên bề mặt wafer. Chỉ cần có sự chênh lệch nhiệt độ 0,5°C thôi, mức liều lượng chiếu sáng cũng sẽ thay đổi. Ngoài ra, nếu vùng được sấy không đồng đều, các bề mặt của &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;wafer&lt;/a&gt; sẽ có dạng dốc, điều này sẽ gây ra nhiều vấn đề trong quá trình tẩy phim và khắc bề mặt wafer. Chúng tôi đã thiết kế hệ thống dây đai gia nhiệt cao nhiệt độ để giải quyết vấn đề này: giữ cho wafer ở nhiệt độ mong muốn trên toàn bộ bề mặt, và duy trì nhiệt độ đó trong nhiều giờ liền, mà không gây ra sự biến động nào.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
