<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Mô-Đun on Infrared Heating Zone Solutions</title>
		<link>http://ir-heat-zone.com/vi/tags/m%C3%B4-%C4%91un/</link>
		<description>Recent content in Mô-Đun on Infrared Heating Zone Solutions</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>vi</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Mon, 29 Jun 2026 07:01:24 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-zone.com/vi/tags/m%C3%B4-%C4%91un/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Mô đun sưởi ấm bằng tia hồng ngoại theo từng khu vực</title>
				<link>http://ir-heat-zone.com/vi/posts/zoned-infrared-heating-module/</link>
				<pubDate>Mon, 29 Jun 2026 07:01:24 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-zone.com/vi/posts/zoned-infrared-heating-module/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-zone.com/images/0ea7296bcdd661f341d1983d454c4037.png&#34; alt=&#34;Mô đun sưởi ấm bằng tia hồng ngoại theo từng khu vực&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;Trong&lt;/a&gt; quy trình in ấn bằng phương pháp &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;lithography&lt;/a&gt;, sự thay đổi nhiệt độ chỉ 1°C cũng có thể khiến độ rộng của các đường nét trên &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;wafer&lt;/a&gt; thay đổi vài nanomet. Ngoài ra, sự xuất hiện của các hạt bụi cũng có thể làm hỏng toàn bộ sản phẩm. Chính vì vậy, mô-đun sưởi ấm bằng tia hồng ngoại được thiết kế nhằm duy trì nhiệt độ trong khoảng cho phép trong suốt quy trình sản xuất.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
			<item>
				<title>Mô đun hồng ngoại sấy thuốc kháng quang</title>
				<link>http://ir-heat-zone.com/vi/posts/photoresist-drying-infrared-module/</link>
				<pubDate>Sun, 07 Jun 2026 03:48:07 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-zone.com/vi/posts/photoresist-drying-infrared-module/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-zone.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;Mô đun hồng ngoại sấy thuốc kháng quang&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Trên tầng lithography, chỉ cần lệch nướng mềm photoresist nửa độ cũng đủ để làm sai lệch kiểm soát kích thước quan trọng (CD). Wafers bị dồn ứ, tỷ lệ phế phẩm tăng, và dây chuyền phải chịu chi phí do tính không nhất quán nhiệt. Chúng tôi thiết kế module sấy photoresist bằng hồng ngoại để loại bỏ sự không chắc chắn trong quá trình sấy wafer, nướng mềm và nướng cứng.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
