http://ir-heat-zone.com/vi/tags/ph%C6%A1i-kh%C3%B4/ Recent content in Phơi Khô on Infrared Heating Zone Solutions Hugo vi Mon, 08 Jun 2026 05:05:01 +0800 http://ir-heat-zone.com/vi/posts/infrared-vs-convection-for-wafer-drying/ Mon, 08 Jun 2026 05:05:01 +0800 http://ir-heat-zone.com/vi/posts/infrared-vs-convection-for-wafer-drying/ <p><img src="http://ir-heat-zone.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png" alt="Hồng ngoại so với đối lưu trong việc sấy wafer"></p> <p>Trên sàn chế tạo, một micron nước còn sót lại có thể làm giảm năng suất. Lò đối lưu không thể đáp ứng được ngân sách nhiệt và kỷ luật hạt mà các nút tiên tiến yêu cầu. Tại đây, biên độ cho sai sót đã không còn.</p> <p><strong>Những gì thực sự quan trọng bên trong</strong></p> <p>Sấy hồng ngoại đưa nhiệt trực tiếp vào lớp nước thông qua truyền nhiệt bức xạ, mà không cố gắng làm ấm không khí trong toàn bộ buồng. Điều này giúp bạn đạt được nhiệt độ yêu cầu trong chưa đầy một phút và đồng nhất ở mức <a href="https://o-yate.com">wafer</a> với sai số ±0.1°C—đúng như bạn cần để giữ cho photoresist nguyên vẹn qua quá trình nướng mềm và nướng cứng.</p> http://ir-heat-zone.com/vi/posts/wafer-drying-infrared-heater/ Sun, 31 May 2026 04:45:43 +0800 http://ir-heat-zone.com/vi/posts/wafer-drying-infrared-heater/ <p><img src="http://ir-heat-zone.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png" alt="Máy sấy wafer bằng đèn hồng ngoại"></p> <p>Wafer vừa ra khỏi bước rửa cuối cùng, đồng hồ bắt đầu chạy. Để wafer nằm quá lâu hoặc tạo ra hồ sơ nhiệt không đồng đều trong quá trình sấy, thì dư lượng dung môi sẽ bắt đầu di chuyển. Mẫu <a href="https://henruite.com">photoresist</a> bị làm mềm. Kiểm soát kích thước quan trọng bị ảnh hưởng. Lỗi xuất hiện sau đó trên bản đồ—những thất bại trông như do may rủi, thực ra là do sự không đồng đều nhiệt đang cố gắng mô phỏng sự ngẫu nhiên.</p>