Auf der Lithografieebene kann eine Temperaturänderung von 1°C auf dem Wafer dazu führen, dass die Breite der Linien um Nanometer verschoben wird. Zudem können Partikel dazu führen, dass viel Produkt beschädigt wird. Deshalb wurde das zonengesteuerte Infrarotheizmodul entwickelt, um das thermische Verhalten im gewünschten Bereich zu halten.
Was technisch wichtig ist:
Kurzwell-Infrarotstrahler sind in unabhängig steuerbaren Zonen angeordnet. Dadurch kann die Temperatur so geregelt werden, dass sie zur Struktur des Wafers passt. Auf der gesamten Prozessfläche bleibt die Homogenität der Temperatur bei ±0,1°C. Dadurch wird das Trocknen des Fotoleitmittels reproduzierbar – sowohl das sanfte als auch das intensive Trocknen erfolgt unter kontrollierten Bedingungen. Zudem wird durch die Temperaturregulierung die Abweichung der kritischen Dimensionen minimiert. Die Hardware ist für Reinräume der Klassen 1–100 geeignet und sorgt dafür, dass es keine Partikel gibt. Die Zuverlässigkeit wird gemessen – nicht versprochen. Die Anlage kann 24/7 ohne Ausfälle betrieben werden. Die Lebensdauer der Strahler wird überwacht, damit die Wartungsintervalle vorhersehbar bleiben.
Warum es dort funktioniert, wo es wichtig ist:
Zunächst wird das Fotoleitmittel aufgetragen und anschließend getrocknet. Wenn das Trocknen ungleichmäßig erfolgt, entstehen Probleme wie Unebenheiten an den Rändern oder schlechte Haftung des Fotoleitmittels. Mit der zonengesteuerten Heizung kann die Energie an den Rändern besser reguliert werden, anstatt das Material einfach übermäßig zu trocknen. Dadurch wird eine konstante Kontrolle der kritischen Dimensionen möglich – weniger Nacharbeiten und eine stabile Produktivität.
Das Modul reduziert außerdem Energieverluste, indem es Wärme nur dort bereitstellt, wo sie benötigt wird. Da es schnell zwischen den verschiedenen Prozessschritten umschalten kann, verkürzt sich die Zykluszeit, ohne dass die Qualität des Trocknungsprozesses beeinträchtigt wird.
Was Sie im Voraus wissen sollten:
Die Installation erfordert, dass die mechanischen und elektrischen Anforderungen der Host-Plattform berücksichtigt werden – Typ der Anschlüsse, Ablaufwege für Abgase usw. Es ist außerdem ein Konfigurationsprozess notwendig, um die Zonen an Ihre spezifische Waferstruktur sowie das verwendete Fotoleitmittel anzupassen.
Das Modul ist zwar für Reinräume geeignet, doch es benötigt trotzdem Reinraumbedingungen sowie einen ordnungsgemäßen Präventivwartungsplan, um die Partikelmenge niedrig zu halten und die Leistung über die Zeit konstant zu halten.