בקווי הליתוגרפיה, תהליך החימום של הפוטורזיסט אינו נחשב לשלב של “חימום התחלתי”. למעשה, זהו שלב תרמי שאחראי על שליטה בעובי הקווים שנוצרים על הוואפר. שינוי של 0.5°C בטמפרטורה יגרום לשינוי ברמת החימום, ואזורים חמים שאינם אחידים יגרמו ליצירת דפנות לא אחידות, מה שעלול להפריע בשלבי העיבוד הבאים. פיתחנו את מערכת הסרטים התרמיים שלנו כדי להתמודד עם בעיה זו – לשמור על הוואפר בטמפרטורה הרצויה, בכל שטחו, וזאת שעה אחר שעה, ללא הוספת חלקיקים או שינויים באיכות החימום.
מה חשוב מבחינה טכנית? אנו משתמשים בחימום באמצעות קרינת אינפרא-אדום בגלים קצרים, בשילוב עם סרטים תרמיים בעלי מסה תרמית נמוכה. כך ניתן להשיג אחידות בחימום של הוואפר ברמה של ±0.1°C. ניתן לשלוט בקצב החימום עד 3°C/שנייה, מבלי שייווצרו שינויים יתר, מה שמגן על השכבות הדקות ומאפשר שליטה באנרגיה הנדרשת. הסרטים התרמיים עוצבו כך שיהיו יציבים בטמפרטורות גבוהות, והם מוודאים שלא ייווצרו חלקיקים בסביבות מסוג Class 1–100. האחידות בחימום היא ±0.2°C בין המכשירים השונים, כך שהתהליך יישאר אחיד גם כאשר מעבירים את הוואפר בין מכשירים שונים.
בקווי ליתוגרפיה, חשוב שתהליך החימום יהיה אחיד משלב לשלב, ממבחר למבחר, וממכשיר למכשיר. מערכת הסרטים התרמיים מסייעת לייצב את הקשר בין הוואפר לבין הלוח החם, וכך ניתן להפחית את ההשפעות השליליות של החימום. התוצאה היא אחידות גבוהה יותר בהפצת החומרים על הוואפר, פחות צורך בעיבוד חוזר, ופחות פסולת מהשכבות העודפות על הוואפר.
בנוסף, יש יתרונות גם בכל הנוגע לזמן הפעולה ולצריכת האנרגיה. קרינת האינפרא-אדום מחממת רק את האזור הרצוי, כך שצריכת האנרגיה פוחתת. כמו כן, כאשר צריך להחליף את החומרים הדרושים, התהליך הופך לפשוט וצפוי – פחות הפתעות ופחות זמן עצירה בלתי צפוי.
יש כמה דברים שצריך לזכור: הכימיה של הסרטים התרמיים עובדת טוב עם פוטורזיסטים וחומרי ניקוי סטנדרטיים, אך הם עלולים להיות רגישים לחשיפה ממושכת לחומרים בסיסיים חזקים. יש לבדוק את תהליך הניקוי לאחר החימום לפני שמגדילים את הכמויות.
ההתקנה כוללת התאמה של גאומטריית המכשיר לבין האמיטנס של הצד האחורי של הוואפר. אנו מספקים נהלי כיול לפלטפורמות הנפוצות, כדי לאפשר אינטגרציה מהירה ושמירה על אחידות של ±0.1°C כבר מהיום הראשון.