Hentikan kaedah pemanasan udara: Mengapa reflektor aluminium sangat penting Jika anda masih bergantung pada kaedah pemanasan udara, sebenarnya anda...

Mengapa kita perlu menguji setiap komponen IR (dan mengapa anda perlu peduli) Ketika kami menghantar bungkusan sensor pintar untuk sistem inframerah,...

Mengapa kita beralih kepada penggunaan gelombang inframerah untuk semikonduktor bebas plumbum Dunia semikonduktor sedang berusaha keras untuk...

Berhenti Melawan Kelembapan dalam Proses Pencucian Wafer Sejujurnya, proses pencucian merupakan masa di mana pengurusan suhu menjadi sangat mencabar....

Mengelakkan Alat Pembersih Wafer Daripada rosak Sejujurnya, meletakkan lampu pemanas IR di kawasan pembersihan bahan kimia ibarat bermain dengan api....

Hentikan Penggunaan Tenaga untuk Memanaskan Udara: Cara Lebih Cekap untuk Mengendalikan Kilang Anda Setiap kilang kini berusaha keras untuk mencapai...

Ketika anda memproses wafer sensor MEMS setelah proses pembersihan kimia, anda memerlukan haba – dan ia perlu diberikan dengan cepat. Namun,...

Mendapatkan haba di tempat yang sepatutnya: Penghasilan karbon nanotube Jika anda pernah bekerja dengan karbon nanotube, anda pasti tahu betapa sukar...

Mengapa kita menggunakan lampu inframerah berlapis emas untuk proses pengeringan semikonduktor Dunia semikonduktor sedang berusaha keras untuk...

Berhentilah menunggu ketika menggunakan ketuhar biasa: Kelebihan penggunaan pemanasan IR tanpa ozon Jika anda masih menggunakan kaedah pemanasan...

Mengelakkan Bahaya Semasa Keadaan Tidak Stabil Jika anda menguruskan kilang pengeluaran semikonduktor, anda pasti tahu betapa pentingnya proses...

Hentikan kekacauan akibat lampu yang rosak: Pastikan wafer tetap bersih Dalam kilang pengeluaran wafer, kerosakan pada lampu bukan sekadar masalah...

Cara Mengatasi Masalah Lampu yang Rusak dalam Proses Pengeringan Wafer Sejujurnya, apabila lampu inframerah di kilang semikonduktor rosak, ia...

Jika anda mengendalikan bilik bersih kelas 100, anda pasti tahu bahawa penapis udara hanyalah separuh daripada penyelesaian yang diperlukan. Masalah...

Berhenti menjadikan alat anda sebagai “oven” Pernah perasan tak bagaimana beberapa komponen semikonduktor menjadi sangat panas? Ini berlaku kerana...

Berhenti risau tentang lampu inframerah yang meletup Dalam fasiliti pengeluaran yang mempunyai beban kerja yang tinggi, letupan lampu inframerah...

Hentikan keadaan di mana serpihan kaca jatuh ke atas wafer: Pastikan wafer anda tetap bersih apabila lampu rosak. Sejujurnya, apabila lampu rosak...

Hentikan keadaan yang buruk ini: Pastikan wafer anda tetap bersih apabila pemanas gagal berfungsi Dalam kilang pengeluaran wafer, kerosakan pada...

Hentikan pembaziran haba: Cara yang lebih efisien untuk mengurus beban haba pada bahan semikonduktor Di kilang semikonduktor, kita sentiasa...

Mengapa Kaedah Pengeringan Wafer Memerlukan Reflektor yang Lebih Baik Jika anda masih bergantung pada sistem pengudaraan panas untuk proses...

Mengelakkan Pemanas Semikonduktor Daripada Meletup Dalam dunia semikonduktor, sedikit sahaja kebocoran elektrik pun sudah cukup untuk merosakkan...

Hentikan pembaziran masa: Mengapa penggunaan pemanas inframerah vakum adalah pilihan yang tepat untuk pemprosesan semikonduktor Jika anda masih...

Mengapa Kita Menggunakan Reflektor Emas dalam Kilang Pembuatan Semikonduktor Jika anda pernah bekerja dalam bidang pembuatan semikonduktor, anda...

Hentikan pembaziran tenaga haba: Cara yang lebih baik untuk memanaskan wafer anda Masalahnya ialah proses pemanasan wafer silikon memerlukan banyak...

Mencapai suhu yang tepat menggunakan lampu pemanas berbasis semikonduktor inframerah Jika anda ingin mengurangkan jejak karbon kilang anda,...

Menjaga kebersihan bilik bersih yang sebenar: Hakikat tentang penggunaan kuarsa untuk pemanasan Dalam bilik bersih yang digunakan untuk pengeluaran...

Mengekalkan Keselamatan Semasa Pengemaskinian Peralatan: Bagaimana Lampu Inframerah Kita Memastikan Operasi Bilik Bersih Berjalan Lancar Ketika anda...

Elemen Pemanas Halogen Kuarsa Berkualiti Tinggi: Panas yang Diperlukan, Pada Masa yang Diperlukan Kami mencipta elemen pemanas halogen kuarsa ini...

Penggantian Pemanas Lam Research: Mendapatkan Kualiti Spektrum yang Optimum dengan Penggunaan Panas Inframerah Kami mencipta lampu pemanas inframerah...

Pada tahap backend, masalah seperti kekosongan di bawah lapisan underfill dan masalah berkaitan penyelesaian masalah tersebut bukan sekadar masalah...

Di kilang penghasilan cip, proses pemanasan bahan fotoresist bukanlah sekadar langkah “pemanasan awal”. Ia merupakan langkah-termal yang digunakan...

Di bahagian proses litografi, perubahan suhu sebanyak 1°C pada wafer boleh menyebabkan perubahan ketebalan garis pada permukaan wafer sebanyak...

Pada peringkat awal, profil photoresist ditetapkan semasa proses pembakaran pertama. Perubahan suhu sebanyak 5°C pada permukaan wafer akan...

Di bilik litografi, perubahan suhu sebanyak 0.5°C semasa proses pembakaran sudah cukup untuk merosakkan keseluruhan kumpulan wafer tersebut....

Di bilik pengeluaran, satu tanda air pun setelah proses CMP boleh merosakkan die yang telah melalui proses pelinciran. Proses pengeringan wafer...

Di bilik pengeluaran cip, perubahan suhu sebanyak 0.2°C sahaja sudah cukup untuk merosakkan kawalan profil fotoresist. Ini seterusnya akan...

Di lantai proses litografi, suhu pemanasan yang rendah, sekitar 95°C, sudah cukup untuk mengganggu kawalan dimensi kritikal wafer tersebut. Ini akan...

Di lantai pengilangan, satu mikron air yang tertinggal boleh merosakkan hasil. Ketuhar konveksi tidak mampu mengimbangi bajet terma dan disiplin...

Di lantai litografi, drift setengah darjah dalam pemanasan lembut fotoresist sudah cukup untuk mengeluarkan kawalan dimensi kritikal (CD) dari...

Di lantai pembuatan, pemotongan laser adalah tentang disiplin terma. Jika anda tidak memilikinya, mikro-retak mula terbentuk, taper kerf meletup, dan...

Out on the fab floor, anda sudah biasa dengan prosedur ini: profil pemanggangan photoresist yang berubah separuh darjah boleh menjejaskan kawalan...

Pada lantai litho, ralat terma tidak memberi ruang yang luas untuk diatasi. FOUP yang menahan kelembapan atau menjadi panas di satu sudut dan sejuk...

Out on the floor, flip chip bonder sedang beroperasi. Kitaran pick-and-place, dispenses underfill, dan profil terma dijangka kekal dalam julat yang...

Wafer keluar dari bilasan akhir, dan jam mula berdetik. Biarkan terlalu lama, atau berikan profil terma yang tidak sekata semasa pengeringan, dan...