Di lantai proses litografi, suhu pemanasan yang rendah, sekitar 95°C, sudah cukup untuk mengganggu kawalan dimensi kritikal wafer tersebut. Ini akan menyebabkan masalah pada proses pengembangan bahan fotoretarder setelahnya. Penyelesaian yang efektif bagi masalah ini adalah penggunaan lampu pemanas inframerah berbentuk dua tiub. Lampu ini memberikan haba yang cepat kepada wafer, sehingga memastikan ketekalan suhu yang tinggi. Dengan cara ini, bahan fotoretarder akan berperilaku sama dari satu kitaran ke kitaran yang lain.
Apa yang penting di baliknya
Lampu ini menggunakan unsur-unsur inframerah berfrekuensi rendah dalam reka bentuk dua tiub, sehingga memberikan kepadatan haba yang tinggi dan respons termal yang cepat. Ia mampu menjaga ketekalan suhu pada tahap ±0.1°C, dan mengekalkan kestabilan suhu semasa proses pemanasan. Reka bentuk lampu ini juga memastikan pengeluaran partikel yang minimum, sehingga sesuai digunakan di ruang bersih kelas 1–100. Prestasi lampu ini tetap konsisten walaupun telah digunakan selama lebih dari 5,000 jam, dengan perubahan intensiti kurang dari 5%. Ini bermakna keperluan untuk kalibrasi dan kawalan proses menjadi lebih sedikit.
Kelebihan penggunaan lampu ini
Profil pemanasan yang konsisten merupakan faktor penting untuk memastikan kelancaran proses pembuatan semikonduktor. Lampu ini dapat mencapai suhu yang diinginkan dengan cepat, mengurangkan masa proses pemanasan, dan memastikan kestabilan suhu di dalam bilik pemanasan. Ini seterusnya mengurangkan keperluan untuk pembaikan atau pembuangan bahan yang tidak berkualiti. Penggunaan tenaga juga lebih efisien kerana haba disalurkan secara langsung ke sasaran tanpa pembaziran. Selain itu, jangka hayat lampu yang panjang memudahkan penyelenggaraan dan penggantian komponen.
Beberapa perkara praktikal
Pemasangan lampu ini memerlukan penyesuaian optik yang tepat serta pemasangan yang kukuh. Jika ada kesilapan, walaupun sedikit, ia akan menyebabkan kawasan tertentu pada wafer menjadi terlalu panas. Semasa memasang lampu ini, pastikan geometri reflektor sesuai dengan saiz bilik pemanasan, dan pastikan sumber kuasa serta sistem pengurusan suhu sesuai dengan keperluan proses. Proses pemanasan memerlukan masa untuk mencapai keadaan stabil; oleh itu, rencanakan proses pemanasan dengan bijak agar hasilnya lebih baik.
Kami membina lampu ini agar memenuhi standard yang ditetapkan oleh industri pembuatan semikonduktor. Prestasi termal yang konsisten, operasi yang bersih, dan masa operasi yang boleh dipercayai merupakan kelebihan lampu ini.