Hentikan kaedah pemanasan udara: Mengapa reflektor aluminium sangat penting Jika anda masih bergantung pada kaedah pemanasan udara, sebenarnya anda...

Berhenti Melawan Kelembapan dalam Proses Pencucian Wafer Sejujurnya, proses pencucian merupakan masa di mana pengurusan suhu menjadi sangat mencabar....

Hentikan Penggunaan Tenaga untuk Memanaskan Udara: Cara Lebih Cekap untuk Mengendalikan Kilang Anda Setiap kilang kini berusaha keras untuk mencapai...

Mengapa kita menggunakan lampu inframerah berlapis emas untuk proses pengeringan semikonduktor Dunia semikonduktor sedang berusaha keras untuk...

Berhentilah menunggu ketika menggunakan ketuhar biasa: Kelebihan penggunaan pemanasan IR tanpa ozon Jika anda masih menggunakan kaedah pemanasan...

Hentikan kekacauan akibat lampu yang rosak: Pastikan wafer tetap bersih Dalam kilang pengeluaran wafer, kerosakan pada lampu bukan sekadar masalah...

Berhenti menjadikan alat anda sebagai “oven” Pernah perasan tak bagaimana beberapa komponen semikonduktor menjadi sangat panas? Ini berlaku kerana...

Berhenti risau tentang lampu inframerah yang meletup Dalam fasiliti pengeluaran yang mempunyai beban kerja yang tinggi, letupan lampu inframerah...

Mengapa Kaedah Pengeringan Wafer Memerlukan Reflektor yang Lebih Baik Jika anda masih bergantung pada sistem pengudaraan panas untuk proses...

Pada peringkat awal, profil photoresist ditetapkan semasa proses pembakaran pertama. Perubahan suhu sebanyak 5°C pada permukaan wafer akan...

Di lantai proses litografi, suhu pemanasan yang rendah, sekitar 95°C, sudah cukup untuk mengganggu kawalan dimensi kritikal wafer tersebut. Ini akan...

Out on the floor, flip chip bonder sedang beroperasi. Kitaran pick-and-place, dispenses underfill, dan profil terma dijangka kekal dalam julat yang...